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इन्फिनियन ने दुनिया का पहला 300 मिमी पावर GaN वेफर का अनावरण किया

हाल ही में, Infineon Technologies ने दुनिया की पहली 300 मिमी पावर गैलियम नाइट्राइड (GaN) वेफर तकनीक के सफल विकास की घोषणा की।

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मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन विनिर्माण

मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन निर्माण में उपयोग की जाने वाली तीन प्राथमिक विधियाँ Czochralski (CZ) विधि, Kyropoulos विधि और फ्लोट ज़ोन (FZ) विधि हैं।

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सेमीकंडक्टर प्रसंस्करण में ऑक्सीकरण

ऑक्सीकरण प्रक्रियाएं वेफर पर एक सुरक्षात्मक परत बनाकर ऐसी समस्याओं को रोकने में महत्वपूर्ण भूमिका निभाती हैं, जिसे ऑक्साइड परत के रूप में जाना जाता है, जो विभिन्न रसायनों के बीच बाधा के रूप में कार्य करती है।

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सेमीकंडक्टर और फोटोवोल्टिक क्षेत्रों में SiC सिरेमिक के अनुप्रयोगों और विकास संभावनाओं का विश्लेषण

सिलिकॉन कार्बाइड (SiC), एक महत्वपूर्ण उच्च-स्तरीय सिरेमिक सामग्री के रूप में, उच्च तापमान प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, पहनने के प्रतिरोध, उच्च तापमान यांत्रिक शक्ति और ऑक्सीकरण प्रतिरोध जैसे उत्कृष्ट गुण हैं। ये गुण इसे अर्धचालक, परमाणु ऊर्जा, रक्षा और अंतरिक्ष प्रौद्योगिकी जैसे उच्च तकनीकी क्षेत्रो......

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SiC सिरेमिक तैयारी के लिए दबाव रहित सिंटरिंग क्यों चुनें?

अति-उच्च संश्लेषण तापमान और SiC सिरेमिक की घनी सिंटरिंग प्राप्त करने की कठिनाई ने उनके विकास को सीमित कर दिया है। SiC सिरेमिक के लिए सिंटरिंग प्रक्रिया महत्वपूर्ण है।

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सिलिकॉन नाइट्राइड क्या है?

सिलिकॉन नाइट्राइड (Si3N4) उन्नत उच्च तापमान संरचनात्मक सिरेमिक के विकास में एक महत्वपूर्ण सामग्री है।

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