चीन सीवीडी भट्टी निर्माता, आपूर्तिकर्ता, फैक्टरी

रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) प्रक्रिया के लिए उपयोग की जाने वाली सीवीडी भट्टियां। रासायनिक वाष्प जमाव एक ऐसी प्रक्रिया है जिसमें वाष्पीकृत पूर्ववर्ती गैसों और एक गर्म सतह के बीच रासायनिक प्रतिक्रिया का उपयोग करके एक सब्सट्रेट पर एक पतली फिल्म जमा की जाती है।

सीवीडी भट्टियों में आमतौर पर एक वैक्यूम चैंबर, एक गैस वितरण प्रणाली, एक हीटिंग सिस्टम और एक सब्सट्रेट धारक होता है। निर्वात कक्ष का उपयोग जमाव वातावरण से हवा और अन्य गैसों को हटाने के लिए किया जाता है ताकि अशुद्धियों को जमाव प्रक्रिया में हस्तक्षेप करने से रोका जा सके। गैस वितरण प्रणाली पूर्ववर्ती गैसों को सब्सट्रेट सतह पर पहुंचाती है जहां वे वांछित पतली फिल्म बनाने के लिए प्रतिक्रिया करते हैं। प्रतिक्रिया होने के लिए हीटिंग सिस्टम सब्सट्रेट को आवश्यक तापमान तक गर्म करता है। सब्सट्रेट होल्डर का उपयोग जमाव प्रक्रिया के दौरान सब्सट्रेट को अपनी जगह पर बनाए रखने के लिए किया जाता है।

सीवीडी प्रक्रिया में, पूर्ववर्ती गैसों को निर्वात कक्ष में पेश किया जाता है और एक तापमान तक गर्म किया जाता है जहां वे विघटित होते हैं और गर्म सब्सट्रेट पर एक पतली फिल्म बनाने के लिए प्रतिक्रिया करते हैं। वांछित फिल्म गुणों को प्राप्त करना सुनिश्चित करने के लिए जमाव वातावरण के तापमान और दबाव को सावधानीपूर्वक नियंत्रित किया जाता है।

एकीकृत सर्किट और सौर कोशिकाओं जैसे माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के निर्माण के लिए पतली फिल्मों को जमा करने के लिए सेमीकंडक्टर उद्योग में सीवीडी भट्टियों का व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है। इनका उपयोग कोटिंग्स, ऑप्टिकल फाइबर और सुपरकंडक्टर्स जैसी उन्नत सामग्रियों के उत्पादन में भी किया जाता है।