फ्यूज्ड क्वार्ट्ज पेडस्टल, विशेष रूप से परमाणु परत जमाव (एएलडी), कम दबाव वाले रासायनिक वाष्प जमाव (एलपीसीवीडी), और प्रसार प्रक्रियाओं में उपयोग के लिए डिज़ाइन किया गया है, जो वेफर सतहों पर पतली फिल्मों का एक समान जमाव सुनिश्चित करता है।**
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