वर्तमान में, एकल क्रिस्टल बढ़ने के लिए उच्च शुद्धता वाले एसआईसी पाउडर के संश्लेषण के तरीकों में मुख्य रूप से शामिल हैं: सीवीडी विधि और बेहतर स्व-प्रसारित संश्लेषण विधि (जिसे उच्च-तापमान संश्लेषण विधि या दहन विधि के रूप में भी जाना जाता है)।
और पढ़ेंसटीक सिरेमिक भागों को सेमीकंडक्टर विनिर्माण की प्रमुख प्रक्रियाओं में मुख्य उपकरणों के प्रमुख घटक हैं, जैसे कि फोटोलिथोग्राफी, नक़्क़ाशी, पतली फिल्म बयान, आयन आरोपण, सीएमपी, आदि, जैसे कि बीयरिंग, गाइड रेल, लाइनर, इलेक्ट्रोस्टैटिक चक, मैकेनिकल हैंडलिंग आर्म्स, आदि।
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