TaC कोटिंग ग्रेफाइट एक मालिकाना रासायनिक वाष्प जमाव (CVD) प्रक्रिया द्वारा टैंटलम कार्बाइड की एक महीन परत के साथ उच्च शुद्धता वाले ग्रेफाइट सब्सट्रेट की सतह को कोटिंग करके बनाया जाता है।
टैंटलम कार्बाइड (TaC) एक यौगिक है जिसमें टैंटलम और कार्बन होता है। इसमें धात्विक विद्युत चालकता और असाधारण रूप से उच्च गलनांक होता है, जो इसे एक दुर्दम्य सिरेमिक सामग्री बनाता है जो अपनी ताकत, कठोरता और गर्मी और पहनने के प्रतिरोध के लिए जाना जाता है। टैंटलम कार्बाइड का गलनांक शुद्धता के आधार पर लगभग 3880°C तक पहुँच जाता है और बाइनरी यौगिकों में यह सबसे अधिक गलनांक में से एक है। यह इसे एक आकर्षक विकल्प बनाता है जब उच्च तापमान की मांग एमओसीवीडी और एलपीई जैसे यौगिक अर्धचालक एपिटैक्सियल प्रक्रियाओं में उपयोग की जाने वाली प्रदर्शन क्षमताओं से अधिक हो जाती है।
सेमीकोरेक्स TaC कोटिंग का सामग्री डेटा
परियोजनाओं |
पैरामीटर |
घनत्व |
14.3 (ग्राम/सेमी³) |
उत्सर्जन |
0.3 |
सीटीई (×10-6/के) |
6.3 |
कठोरता (एचके) |
2000 |
प्रतिरोध (ओम-सेमी) |
1×10-5 |
तापीय स्थिरता |
<2500℃ |
ग्रेफाइट आयाम परिवर्तन |
-10~-20um (संदर्भ मान) |
कोटिंग की मोटाई |
≥20um विशिष्ट मान(35um±10um) |
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उपरोक्त विशिष्ट मान हैं |
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और पढ़ेंजांच भेजेंसेमीकोरेक्स टीएसी कोटेड ग्रेफाइट पार्ट एक उच्च प्रदर्शन वाला घटक है जिसे SiC क्रिस्टल विकास और एपिटैक्सी प्रक्रियाओं में उपयोग के लिए डिज़ाइन किया गया है, जिसमें एक टिकाऊ टैंटलम कार्बाइड कोटिंग है जो थर्मल स्थिरता और रासायनिक प्रतिरोध को बढ़ाती है। सेमीकंडक्टर उद्योग की मांग की जरूरतों को पूरा करने के लिए तैयार किए गए विश्वसनीय, लंबे समय तक चलने वाले घटकों को प्रदान करने में हमारे अभिनव समाधान, बेहतर उत्पाद गुणवत्ता और विशेषज्ञता के लिए सेमीकोरेक्स चुनें।*
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