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समाचार
सेमीकंडक्टर फर्नेस रिएक्टर
सेमीकंडक्टर भट्टी रिएक्टर सेमीकंडक्टर निर्माण प्रक्रियाओं में मुख्य उपकरण हैं, जिनका उपयोग मुख्य रूप से थर्मल ऑक्सीकरण, प्रसार, एनीलिंग और रासायनिक वाष्प जमाव जैसी महत्वपूर्ण प्रक्रियाओं के लिए किया जाता है। एक विशिष्ट भट्टी प्रणाली (क्षैतिज/ऊर्ध्वाधर प्रसार भट्टी) में मुख्य रूप से निम्नलिखित मुख्य ......
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रैपिड थर्मल एनीलिंग का संक्षिप्त परिचय
रैपिड थर्मल एनीलिंग (संक्षिप्त रूप में आरटीए या आरटीपी) सेमीकंडक्टर निर्माण में एक तीव्र थर्मल प्रोसेसिंग तकनीक है। इसका मुख्य सिद्धांत उच्च तीव्रता वाले उज्ज्वल ताप स्रोत (जैसे हैलोजन लैंप, लेजर, फ्लैश लैंप इत्यादि) का उपयोग करके वेफर सतह को तेजी से गर्म करना है, वेफर को बेहद कम समय (सेकंड या मिलीस......
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ग्रेफाइट ससेप्टर्स पर CVD SiC कोटिंग क्यों लगाएं?
तीसरी पीढ़ी का सेमीकंडक्टर उद्योग तेजी से क्षमता विस्तार के दौर से गुजर रहा है। सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) और गैलियम नाइट्राइड (GaN) एपिटैक्सी प्रक्रियाएं उच्च तापमान वाले ऑपरेटिंग वातावरण, अति उच्च शुद्धता वाले कच्चे माल और लघु चिप उपकरणों की ओर विकसित होती रहती हैं। फिर भी, कठोर उच्च तापमान और अत्यधिक......
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सिलिकॉन कार्बाइड वेफर नाव
सेमीकंडक्टर निर्माण में, ऑक्सीकरण में वेफर को उच्च तापमान वाले वातावरण में रखना शामिल होता है जहां ऑक्साइड परत बनाने के लिए वेफर सतह पर ऑक्सीजन प्रवाहित होती है। यह वेफर को रासायनिक अशुद्धियों से बचाता है, लीकेज करंट को सर्किटरी में प्रवेश करने से रोकता है, आयन आरोपण के दौरान प्रसार को रोकता है, और ......
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उन्नत सेमीकंडक्टर विनिर्माण के लिए TaC-लेपित ग्रेफाइट वेफर ससेप्टर्स क्यों आवश्यक होते जा रहे हैं?
सेमीकोरेक्स उन्नत टीएसी-लेपित ग्रेफाइट वेफर ससेप्टर्स प्रदान करता है जो सेमीकंडक्टर प्रक्रियाओं की मांग के लिए डिज़ाइन किए गए हैं जिनके लिए उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता, रासायनिक प्रतिरोध और सटीक वेफर समर्थन प्रदर्शन की आवश्यकता होती है। चूंकि सेमीकंडक्टर निर्माता अगली पीढ़ी के उपकरणों को विकसित करना जारी......
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