आईसीपी नक़्क़ाशी प्रक्रिया के लिए वेफर धारक

वेफर हैंडलिंग और पतली फिल्म जमाव प्रक्रियाओं में विश्वसनीय और लगातार प्रदर्शन के लिए आईसीपी नक़्क़ाशी प्रक्रिया के लिए सेमीकोरेक्स के वेफर होल्डर को चुनें। हमारा उत्पाद एसिड, क्षार, नमक और कार्बनिक अभिकर्मकों के लिए उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोध, उच्च शुद्धता और संक्षारण प्रतिरोध प्रदान करता है।
आईसीपी नक़्क़ाशी प्रक्रिया के लिए हमारे वेफर होल्डर को थर्मल प्रोफाइल की समरूपता सुनिश्चित करते हुए सर्वोत्तम लैमिनर गैस प्रवाह पैटर्न प्राप्त करने के लिए डिज़ाइन किया गया है। यह किसी भी संदूषण या अशुद्धियों के प्रसार को रोकने में मदद करता है, जिससे वेफर चिप पर उच्च गुणवत्ता वाले एपिटैक्सियल विकास सुनिश्चित होता है।
आईसीपी नक़्क़ाशी प्रक्रिया के लिए हमारे वेफर होल्डर के बारे में अधिक जानने के लिए आज ही हमसे संपर्क करें।

आईसीपी नक़्क़ाशी प्रक्रिया के लिए वेफर होल्डर के पैरामीटर

आईसीपी नक़्क़ाशी प्रक्रिया के लिए वेफर होल्डर की विशेषताएं

- छीलने से बचें और पूरी सतह पर कोटिंग सुनिश्चित करें

उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोध: 1600 डिग्री सेल्सियस तक उच्च तापमान पर स्थिर

उच्च शुद्धता: उच्च तापमान क्लोरीनीकरण स्थितियों के तहत सीवीडी रासायनिक वाष्प जमाव द्वारा बनाई गई।

संक्षारण प्रतिरोध: उच्च कठोरता, घनी सतह और महीन कण।

संक्षारण प्रतिरोध: अम्ल, क्षार, नमक और कार्बनिक अभिकर्मक।

- सर्वोत्तम लेमिनर गैस प्रवाह पैटर्न प्राप्त करें

- थर्मल प्रोफाइल की समरूपता की गारंटी

- किसी भी संदूषण या अशुद्धियों के प्रसार को रोकें