आईसीपी प्लाज्मा नक़्क़ाशी प्लेट

सेमीकोरेक्स की आईसीपी प्लाज्मा एचिंग प्लेट वेफर हैंडलिंग और पतली फिल्म जमाव प्रक्रियाओं के लिए बेहतर गर्मी और संक्षारण प्रतिरोध प्रदान करती है। हमारे उत्पाद को उच्च तापमान और कठोर रासायनिक सफाई का सामना करने के लिए इंजीनियर किया गया है, जो स्थायित्व और दीर्घायु सुनिश्चित करता है। साफ और चिकनी सतह के साथ, हमारा कैरियर प्राचीन वेफर्स को संभालने के लिए बिल्कुल उपयुक्त है।

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उत्पाद वर्णन

जब पतली फिल्म जमाव और वेफर हैंडलिंग की बात आती है, तो सेमीकोरेक्स की आईसीपी प्लाज्मा एचिंग प्लेट पर भरोसा करें। हमारा उत्पाद बेहतर गर्मी और संक्षारण प्रतिरोध, यहां तक कि थर्मल एकरूपता और इष्टतम लैमिनर गैस प्रवाह पैटर्न प्रदान करता है। साफ और चिकनी सतह के साथ, हमारा कैरियर प्राचीन वेफर्स को संभालने के लिए बिल्कुल उपयुक्त है।

हमारी आईसीपी प्लाज़्मा नक़्क़ाशी प्लेट को सर्वोत्तम लेमिनर गैस प्रवाह पैटर्न प्राप्त करने के लिए डिज़ाइन किया गया है, जो थर्मल प्रोफ़ाइल की समरूपता सुनिश्चित करता है। यह किसी भी संदूषण या अशुद्धियों के प्रसार को रोकने में मदद करता है, जिससे वेफर चिप पर उच्च गुणवत्ता वाले एपिटैक्सियल विकास सुनिश्चित होता है।

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आईसीपी प्लाज्मा नक़्क़ाशी प्लेट के पैरामीटर

सीवीडी-एसआईसी कोटिंग की मुख्य विशिष्टताएँ
SiC-सीवीडी गुण
क्रिस्टल की संरचना	एफसीसी β चरण
घनत्व	जी/सेमी ³	3.21
कठोरता	विकर्स कठोरता	2500
अनाज आकार	माइक्रोन	2~10
रासायनिक शुद्धता	%	99.99995
ताप की गुंजाइश	जे किग्रा-1 के-1	640
ऊर्ध्वपातन तापमान	℃	2700
फेलेक्सुरल ताकत	एमपीए (आरटी 4-पॉइंट)	415
यंग का मापांक	जीपीए (4पीटी बेंड, 1300℃)	430
थर्मल विस्तार (सी.टी.ई.)	10-6K -1	4.5
ऊष्मीय चालकता	(डब्ल्यू/एमके)	300