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ICP Etch के लिए SiC Susceptor

ICP Etch के लिए SiC Susceptor

ICP Etch के लिए सेमीकोरेक्स SiC ससेप्टर का निर्माण गुणवत्ता और स्थिरता के उच्च मानकों को बनाए रखने पर ध्यान देने के साथ किया जाता है। इन रिसेप्टर्स को बनाने के लिए उपयोग की जाने वाली मजबूत विनिर्माण प्रक्रियाएं यह सुनिश्चित करती हैं कि प्रत्येक बैच कड़े प्रदर्शन मानदंडों को पूरा करता है, जिससे सेमीकंडक्टर नक़्क़ाशी में विश्वसनीय और लगातार परिणाम मिलते हैं। इसके अतिरिक्त, सेमीकोरेक्स तेजी से वितरण कार्यक्रम की पेशकश करने के लिए सुसज्जित है, जो सेमीकंडक्टर उद्योग की तीव्र बदलाव की मांगों के साथ तालमेल बनाए रखने के लिए महत्वपूर्ण है, यह सुनिश्चित करता है कि गुणवत्ता से समझौता किए बिना उत्पादन समयसीमा पूरी हो। सेमीकोरेक्स में हम उच्च प्रदर्शन के निर्माण और आपूर्ति के लिए समर्पित हैं ICP Etch के लिए SiC Susceptor जो गुणवत्ता को लागत-दक्षता के साथ जोड़ता है।**

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उत्पाद वर्णन

ICP Etch के लिए सेमीकोरेक्स SiC ससेप्टर अपनी उत्कृष्ट तापीय चालकता के लिए प्रसिद्ध है, जो सतह पर तेजी से और समान ताप वितरण की अनुमति देता है। यह सुविधा नक़्क़ाशी प्रक्रिया के दौरान एक सुसंगत तापमान बनाए रखने, पैटर्न स्थानांतरण में उच्च परिशुद्धता सुनिश्चित करने के लिए महत्वपूर्ण है। इसके अतिरिक्त, SiC का थर्मल विस्तार का कम गुणांक अलग-अलग तापमान के तहत आयामी परिवर्तनों को कम करता है, इस प्रकार संरचनात्मक अखंडता बनाए रखता है और सटीक और समान सामग्री हटाने का समर्थन करता है।


ICP Etch के लिए SiC Susceptor के असाधारण गुणों में से एक प्लाज्मा प्रभाव के प्रति उनका प्रतिरोध है। यह प्रतिरोध यह सुनिश्चित करता है कि प्लाज्मा बमबारी की कठोर परिस्थितियों में रिसेप्टर ख़राब या नष्ट नहीं होता है, जो इन नक़्क़ाशी प्रक्रियाओं में आम है। यह स्थायित्व नक़्क़ाशी प्रक्रिया की विश्वसनीयता को बढ़ाता है और न्यूनतम दोष के साथ स्वच्छ, अच्छी तरह से परिभाषित नक़्क़ाशी पैटर्न के उत्पादन में योगदान देता है।


ICP Etch के लिए SiC Susceptor मजबूत एसिड और क्षार द्वारा संक्षारण के लिए स्वाभाविक रूप से प्रतिरोधी है, जो ICP नक़्क़ाशी वातावरण में उपयोग की जाने वाली सामग्रियों के लिए एक आवश्यक गुण है। यह रासायनिक प्रतिरोध सुनिश्चित करता है कि ICP Etch के लिए SiC Susceptor आक्रामक रासायनिक अभिकर्मकों के संपर्क में आने पर भी समय के साथ अपने भौतिक और यांत्रिक गुणों को बनाए रखता है। यह स्थायित्व बार-बार प्रतिस्थापन और रखरखाव की आवश्यकता को कम करता है, जिससे परिचालन लागत कम होती है और सेमीकंडक्टर निर्माण सुविधाओं का अपटाइम बढ़ जाता है।


ICP Etch के लिए सेमीकोरेक्स SiC ससेप्टर को विशिष्ट आयामी आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए सटीक रूप से इंजीनियर किया जा सकता है, जो सेमीकंडक्टर निर्माण में एक महत्वपूर्ण कारक है जहां विभिन्न वेफर आकार और प्रसंस्करण विशिष्टताओं को समायोजित करने के लिए अक्सर अनुकूलन की आवश्यकता होती है। यह अनुकूलनशीलता मौजूदा उपकरण और प्रक्रिया लाइनों के साथ बेहतर एकीकरण की अनुमति देती है, जिससे नक़्क़ाशी प्रक्रिया की समग्र दक्षता और प्रभावशीलता का अनुकूलन होता है।



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