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प्रेरक-युग्मित प्लाज्मा (आईसीपी)

प्रेरक-युग्मित प्लाज्मा (आईसीपी)

इंडक्टिवली-कपल्ड प्लाज़्मा (आईसीपी) के लिए सेमीकोरेक्स का सिलिकॉन कार्बाइड लेपित रिसेप्टर विशेष रूप से एपिटेक्सी और एमओसीवीडी जैसी उच्च तापमान वाली वेफर हैंडलिंग प्रक्रियाओं के लिए डिज़ाइन किया गया है। 1600 डिग्री सेल्सियस तक के स्थिर, उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोध के साथ, हमारे वाहक समान थर्मल प्रोफाइल, लैमिनर गैस प्रवाह पैटर्न सुनिश्चित करते हैं, और संदूषण या अशुद्धियों के प्रसार को रोकते हैं।

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उत्पाद वर्णन

एक वेफर वाहक की आवश्यकता है जो उच्च तापमान, कठोर रासायनिक वातावरण को संभाल सके? इंडक्टिवली-कपल्ड प्लाज़्मा (आईसीपी) के लिए सेमीकोरेक्स के सिलिकॉन कार्बाइड लेपित सेसेप्टर के अलावा और कुछ न देखें। हमारे वाहकों में एक बढ़िया SiC क्रिस्टल कोटिंग है जो बेहतर गर्मी प्रतिरोध, यहां तक ​​कि थर्मल एकरूपता और टिकाऊ रासायनिक प्रतिरोध प्रदान करती है।
इंडक्टिवली-कपल्ड प्लाज़्मा (ICP) के लिए हमारे SiC ससेप्टर के बारे में अधिक जानने के लिए आज ही हमसे संपर्क करें।


प्रेरक-युग्मित प्लाज्मा (आईसीपी) के लिए रिसेप्टर के पैरामीटर

सीवीडी-एसआईसी कोटिंग की मुख्य विशिष्टताएँ

SiC-CVD गुण

क्रिस्टल की संरचना

एफसीसी β चरण

घनत्व

जी/सेमी ³

3.21

कठोरता

विकर्स कठोरता

2500

अनाज आकार

माइक्रोन

2~10

रासायनिक शुद्धता

%

99.99995

ताप की गुंजाइश

जे किग्रा-1 के-1

640

उर्ध्वपातन तापमान

2700

फेलेक्सुरल ताकत

एमपीए (आरटी 4-पॉइंट)

415

यंग का मापांक

जीपीए (4पीटी बेंड, 1300℃)

430

थर्मल विस्तार (सी.टी.ई.)

10-6K -1

4.5

ऊष्मीय चालकता

(डब्ल्यू/एमके)

300


प्रेरक-युग्मित प्लाज्मा (आईसीपी) के लिए सिलिकॉन कार्बाइड लेपित रिसेप्टर की विशेषताएं

- छीलने से बचें और पूरी सतह पर कोटिंग सुनिश्चित करें

उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोध: 1600 डिग्री सेल्सियस तक उच्च तापमान पर स्थिर

उच्च शुद्धता: उच्च तापमान क्लोरीनीकरण स्थितियों के तहत सीवीडी रासायनिक वाष्प जमाव द्वारा बनाई गई।

संक्षारण प्रतिरोध: उच्च कठोरता, घनी सतह और महीन कण।

संक्षारण प्रतिरोध: अम्ल, क्षार, नमक और कार्बनिक अभिकर्मक।

- सर्वोत्तम लेमिनर गैस प्रवाह पैटर्न प्राप्त करें

- थर्मल प्रोफाइल की समरूपता की गारंटी

- किसी भी संदूषण या अशुद्धियों के प्रसार को रोकें





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