आईसीपी नक़्क़ाशी वेफर धारक

क्या आप अपने एपिटेक्सी उपकरण के लिए वेफर कैरियर्स के विश्वसनीय आपूर्तिकर्ता की तलाश कर रहे हैं? सेमीकोरेक्स से आगे नहीं देखें। हमारा आईसीपी नक़्क़ाशी वेफर धारक विशेष रूप से उच्च तापमान, कठोर रासायनिक सफाई वातावरण के लिए इंजीनियर किया गया है। बढ़िया SiC क्रिस्टल कोटिंग के साथ, हमारे वाहक बेहतर गर्मी प्रतिरोध, यहां तक ​​कि थर्मल एकरूपता और टिकाऊ रासायनिक प्रतिरोध प्रदान करते हैं।
हमारे आईसीपी एचिंग वेफर होल्डर को थर्मल प्रोफाइल की समरूपता सुनिश्चित करते हुए सर्वोत्तम लैमिनर गैस प्रवाह पैटर्न प्राप्त करने के लिए डिज़ाइन किया गया है। यह किसी भी संदूषण या अशुद्धियों के प्रसार को रोकने में मदद करता है, जिससे वेफर चिप पर उच्च गुणवत्ता वाले एपिटैक्सियल विकास सुनिश्चित होता है।
हमारे आईसीपी एचिंग वेफर होल्डर के बारे में अधिक जानने के लिए आज ही हमसे संपर्क करें।

आईसीपी एचिंग वेफर होल्डर के पैरामीटर

आईसीपी एचिंग वेफर होल्डर की विशेषताएं

- छीलने से बचें और पूरी सतह पर कोटिंग सुनिश्चित करें

उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोध: 1600 डिग्री सेल्सियस तक उच्च तापमान पर स्थिर

उच्च शुद्धता: उच्च तापमान क्लोरीनीकरण स्थितियों के तहत सीवीडी रासायनिक वाष्प जमाव द्वारा बनाई गई।

संक्षारण प्रतिरोध: उच्च कठोरता, घनी सतह और महीन कण।

संक्षारण प्रतिरोध: अम्ल, क्षार, नमक और कार्बनिक अभिकर्मक।

- सर्वोत्तम लेमिनर गैस प्रवाह पैटर्न प्राप्त करें

- थर्मल प्रोफाइल की समरूपता की गारंटी

- किसी भी संदूषण या अशुद्धियों के प्रसार को रोकें