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प्लाज्मा ईच चैंबर्स के लिए उच्च तापमान SiC कोटिंग

प्लाज्मा ईच चैंबर्स के लिए उच्च तापमान SiC कोटिंग

जब एपिटैक्सी और एमओसीवीडी जैसी वेफर हैंडलिंग प्रक्रियाओं की बात आती है, तो प्लाज्मा ईच चैंबर्स के लिए सेमीकोरेक्स की उच्च तापमान वाली सीआईसी कोटिंग शीर्ष पसंद है। हमारे वाहक बेहतर गर्मी प्रतिरोध, यहां तक ​​कि थर्मल एकरूपता, और टिकाऊ रासायनिक प्रतिरोध प्रदान करते हैं, हमारे ठीक SiC क्रिस्टल कोटिंग के लिए धन्यवाद।

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उत्पाद वर्णन

सेमीकोरेक्स में, हम उच्च गुणवत्ता वाले वेफर हैंडलिंग उपकरण के महत्व को समझते हैं। यही कारण है कि प्लाज्मा ईच चैंबरों के लिए हमारी उच्च तापमान वाली SiC कोटिंग विशेष रूप से उच्च तापमान और कठोर रासायनिक सफाई वातावरण के लिए इंजीनियर की गई है। हमारे वाहक समान थर्मल प्रोफाइल, लेमिनर गैस प्रवाह पैटर्न प्रदान करते हैं, और संदूषण या अशुद्धियों के प्रसार को रोकते हैं।
प्लाज़्मा ईच चैंबर्स के लिए हमारी उच्च तापमान SiC कोटिंग के बारे में अधिक जानने के लिए आज ही हमसे संपर्क करें।


प्लाज्मा ईच चैंबर्स के लिए उच्च तापमान SiC कोटिंग के पैरामीटर

सीवीडी-एसआईसी कोटिंग की मुख्य विशिष्टताएँ

SiC-CVD गुण

क्रिस्टल की संरचना

एफसीसी β चरण

घनत्व

जी/सेमी ³

3.21

कठोरता

विकर्स कठोरता

2500

अनाज आकार

माइक्रोन

2~10

रासायनिक शुद्धता

%

99.99995

ताप की गुंजाइश

जे किग्रा-1 के-1

640

ऊर्ध्वपातन तापमान

2700

फेलेक्सुरल ताकत

एमपीए (आरटी 4-पॉइंट)

415

यंग का मापांक

जीपीए (4पीटी बेंड, 1300℃)

430

थर्मल विस्तार (सी.टी.ई.)

10-6K -1

4.5

ऊष्मीय चालकता

(डब्ल्यू/एमके)

300


प्लाज्मा ईच चैंबर्स के लिए उच्च तापमान SiC कोटिंग की विशेषताएं

- छीलने से बचें और पूरी सतह पर कोटिंग सुनिश्चित करें

उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोध: 1600 डिग्री सेल्सियस तक उच्च तापमान पर स्थिर

उच्च शुद्धता: उच्च तापमान क्लोरीनीकरण स्थितियों के तहत सीवीडी रासायनिक वाष्प जमाव द्वारा बनाई गई।

संक्षारण प्रतिरोध: उच्च कठोरता, घनी सतह और महीन कण।

संक्षारण प्रतिरोध: अम्ल, क्षार, नमक और कार्बनिक अभिकर्मक।

- सर्वोत्तम लेमिनर गैस प्रवाह पैटर्न प्राप्त करें

- थर्मल प्रोफाइल की समरूपता की गारंटी

- किसी भी संदूषण या अशुद्धियों के प्रसार को रोकें





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