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एमओसीवीडी के लिए वेफर कैरियर

एमओसीवीडी के लिए वेफर कैरियर

एमओसीवीडी के लिए सेमीकोरेक्स वेफर कैरियर, मेटल ऑर्गेनिक केमिकल वेपर डिपोजिशन (एमओसीवीडी) की सटीक जरूरतों के लिए तैयार किया गया है, जो उच्च-स्तरीय एकीकृत सर्किट के लिए सिंगल-क्रिस्टल सी या सीआईसी के प्रसंस्करण में एक अनिवार्य उपकरण के रूप में उभरता है। एमओसीवीडी संरचना के लिए वेफर कैरियर अद्वितीय शुद्धता, ऊंचे तापमान और संक्षारक वातावरण के प्रतिरोध और प्राचीन वातावरण को बनाए रखने के लिए बेहतर सीलिंग गुणों का दावा करता है। सेमीकोरेक्स में हम एमओसीवीडी के लिए उच्च प्रदर्शन वाले वेफर कैरियर के निर्माण और आपूर्ति के लिए समर्पित हैं जो गुणवत्ता को लागत-दक्षता के साथ जोड़ते हैं।

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उत्पाद वर्णन

एमओसीवीडी अनुप्रयोगों के लिए एमओसीवीडी के उन्नत डिजाइन के लिए सेमीकोरेक्स वेफर कैरियर एक सुरक्षित नींव के रूप में कार्य करता है, जिसे सेमीकंडक्टर वेफर्स को पालने के लिए विशेषज्ञ रूप से इंजीनियर किया गया है। यह एक अनुकूलित डिज़ाइन प्रदान करता है जो समान सामग्री परत के लिए गैसों के इष्टतम वितरण की सुविधा के साथ-साथ वेफर्स पर एक मजबूत पकड़ सुनिश्चित करता है। रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) के माध्यम से सिलिकॉन कार्बाइड (एसआईसी) कोटिंग के साथ बढ़ाया गया, एमओसीवीडी के लिए वेफर कैरियर सीवीडी सीआईसी के उच्च तापमान को सहन करने, नगण्य थर्मल विस्तार गुणांक रखने और समान गर्मी फैलाव को बढ़ावा देने के गुणों के साथ ग्रेफाइट के लचीलेपन को जोड़ता है। यह संतुलन वेफर्स की सतह के तापमान की अखंडता को बनाए रखने में महत्वपूर्ण है।


संक्षारण अवरोध, रासायनिक लचीलापन और परिणामस्वरूप विस्तारित परिचालन जीवन काल जैसी विशेषताओं का दावा करते हुए, एमओसीवीडी के लिए वेफर कैरियर वेफर्स की क्षमता और उपज दोनों को महत्वपूर्ण रूप से बढ़ाता है। इसका स्थायित्व प्रत्यक्ष आर्थिक लाभ प्रस्तुत करता है, जो एमओसीवीडी के लिए वेफर कैरियर को आपके सेमीकंडक्टर उत्पादन कार्यों के लिए एक बुद्धिमान खरीद विकल्प के रूप में स्थापित करता है।


वेफर्स की एपिटैक्सियल प्रक्रियाओं के लिए सावधानीपूर्वक तैयार किया गया, एमओसीवीडी के लिए सेमीकोरेक्स वेफर कैरियर उच्च तापमान भट्टियों के भीतर वेफर्स के सुरक्षित परिवहन में उत्कृष्टता प्राप्त करता है। इसका टिकाऊ ढांचा यह सुनिश्चित करता है कि वेफर्स बरकरार रहें, जिससे महत्वपूर्ण एपिटैक्सियल विकास चरणों के दौरान क्षति की प्रवृत्ति कम हो जाती है।**



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