एपिटैक्सियल प्रक्रिया में निचले बफ़ल्स के लिए दूसरा भाग

एपिटैक्सियल प्रक्रिया में निचले बैफल्स के लिए दूसरे आधे हिस्से में एक विशिष्ट अर्ध-बेलनाकार आकार होता है, जिसे रणनीतिक रूप से एपिटैक्सियल रिएक्टर के भीतर गैस प्रवाह को अनुकूलित करने के लिए डिज़ाइन किया गया है। सीवीडी सीआईसी कोटिंग्स के साथ उच्च गुणवत्ता वाले ग्रेफाइट से तैयार किए गए, ये हिस्से असाधारण स्थायित्व और थर्मल स्थिरता की गारंटी देते हैं। सेमीकंडक्टर निर्माण की कठिनाइयों का सामना करने के लिए इंजीनियर किए गए, वे आपके उपकरण की लंबी उम्र और विश्वसनीयता में योगदान करते हैं।
घटकों को जटिल रूप से गैस प्रवाह को अनुकूलित करने, एपिटैक्सियल विकास प्रक्रिया के दौरान सामग्रियों के कुशल वितरण और जमाव को सुनिश्चित करने के लिए डिज़ाइन किया गया है। इसके परिणामस्वरूप सेमीकंडक्टर वेफर्स पर बेहतर परत गुणवत्ता प्राप्त होती है।

अनुप्रयोग:

सेमीकंडक्टर विनिर्माण के भीतर एपिटैक्सियल रिएक्टरों के लिए तैयार किया गया।

सटीक और समान एपिटैक्सियल विकास प्राप्त करने के लिए महत्वपूर्ण घटक।

एपिटैक्सियल प्रोसेस में लोअर बैफल्स के लिए हमारे सेकेंड हाफ पार्ट्स के साथ अपनी सेमीकंडक्टर निर्माण क्षमताओं को बढ़ाएं। बेहतर स्थायित्व के लिए सीवीडी सीआईसी से लेपित हमारे अर्ध-बेलनाकार घटकों की नवीनता और विश्वसनीयता पर भरोसा करें। इन उन्नत फिटिंग्स के साथ सेमीकंडक्टर तकनीक में सबसे आगे रहें, इष्टतम प्रदर्शन और लगातार एपिटैक्सियल परत की गुणवत्ता सुनिश्चित करें। एपिटैक्सियल प्रक्रिया में निचले बैफल्स के लिए दूसरे भाग का चयन करें - जहां सटीकता प्रगति से मिलती है।