एसआईसी क्षैतिज फर्नेस ट्यूब

एसआईसी क्षैतिज भट्ठी ट्यूबभट्ठी प्रणाली के अपरिहार्य वाहक हैं, जो आमतौर पर अर्धचालक विनिर्माण या फोटोवोल्टिक उत्पादन उपकरण के मुख्य ताप क्षेत्र में स्थित होते हैं। वे संपूर्ण भट्ठी प्रणाली बनाने के लिए हीटिंग तत्वों, तापमान नियंत्रण प्रणालियों, गैस नियंत्रण प्रणालियों और वेफर नौकाओं के साथ मिलकर काम करते हैं।

वास्तविक ऑपरेशन में, एसआईसी क्षैतिज भट्ठी ट्यूबों को हीटिंग तत्वों द्वारा गर्म किया जाता है, जो सिलिकॉन कार्बाइड सामग्री की उत्कृष्ट तापीय चालकता की मदद से गर्मी को भट्ठी ट्यूबों में समान रूप से स्थानांतरित करते हैं। इस बीच, विशिष्ट प्रक्रिया गैसों (जैसे ऑक्सीजन, नाइट्रोजन, डोपिंग गैसें, आदि) को भट्ठी ट्यूब में पेश किया जाता है। इस उच्च तापमान वाले गैस वातावरण के प्रभाव के तहत, भट्ठी के अंदर अर्धचालक सामग्री रासायनिक प्रतिक्रियाओं या भौतिक परिवर्तनों से गुजरेगी, अंततः सामग्री संशोधन, डोपिंग या संरचनात्मक अनुकूलन प्राप्त करेगी।

सेमीकोरेक्स की एसआईसी क्षैतिज भट्ठी ट्यूब उल्लेखनीय यांत्रिक शक्ति और कठोरता प्रदान करती है, जो बड़ी मात्रा में वेफर हैंडलिंग और प्रसंस्करण से जुड़े अनुप्रयोगों में महत्वपूर्ण भूमिका निभाती है। एसआईसी क्षैतिज भट्ठी ट्यूब ऑक्सीकरण, प्रसार और एनीलिंग जैसी गर्मी उपचार प्रक्रियाओं में वेफर्स के लिए स्थिर समर्थन प्रदान करने में सक्षम हैं, यह सुनिश्चित करते हुए कि उच्च तापमान प्रसंस्करण के दौरान वेफर्स सही स्थिति में हैं और थर्मल तनाव के कारण विस्थापन या विरूपण से बचते हैं।

सेमीकोरेक्स की एसआईसी क्षैतिज भट्ठी ट्यूब उच्च शुद्धता से निर्मित होती हैंसिलिकॉन कार्बाइड सिरेमिकअति-निम्न अशुद्धता सामग्री के साथ, जिसके बाद सीवीडी का जमाव होता हैसिलिकॉन कार्बाइड कोटिंगउनकी सतह पर. यह निर्माण विधि एसआईसी क्षैतिज भट्ठी ट्यूबों में एक सुरक्षात्मक परत जोड़ती है, जो उन्हें समय के साथ मांग वाले उच्च तापमान और संक्षारक वातावरण में स्थिर रूप से संचालित करने में सक्षम बनाती है। एसआईसी क्षैतिज भट्ठी ट्यूबों का यह संक्षारण प्रतिरोध प्रदर्शन संक्षारण से संबंधित घटक क्षति के जोखिम को प्रभावी ढंग से कम करके और लगातार प्रतिस्थापन और रखरखाव की आवश्यकता को कम करके अर्धचालक वेफर निर्माण की दक्षता में सुधार करता है।

इतने सारे बेहतर गुणों के साथ, सेमीकोरेक्स की एसआईसी क्षैतिज भट्ठी ट्यूबों का व्यापक रूप से फोटोवोल्टिक और अर्धचालक उद्योगों में कई उच्च तापमान प्रसंस्करण प्रक्रियाओं जैसे ऑक्सीकरण प्रक्रिया, प्रसार प्रक्रिया, एनीलिंग प्रक्रिया और कम दबाव रासायनिक वाष्प जमाव में उपयोग किया जाता है।