SiC हीटिंग एलिमेंट हीटर फिलामेंट SiC रॉड्स

SiC हीटिंग एलिमेंट हीटर फिलामेंट SiC रॉड्स हीटिंग तकनीक के शिखर का प्रतिनिधित्व करता है, जिसे सेमीकंडक्टर निर्माण प्रक्रिया की सटीक मांगों को पूरा करने के लिए सावधानीपूर्वक इंजीनियर किया गया है। यह नवोन्वेषी ताप तत्व ग्रेफाइट के असाधारण तापीय गुणों को सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) कोटिंग की उच्च-प्रदर्शन विशेषताओं के साथ जोड़ता है, जिसके परिणामस्वरूप सटीक और कुशल अर्धचालक निर्माण के लिए एक अनिवार्य उपकरण बनता है।

अनुप्रयोग:

सेमीकोरेक्स SiC हीटिंग एलिमेंट हीटर फिलामेंट SiC रॉड्स विभिन्न महत्वपूर्ण सेमीकंडक्टर निर्माण प्रक्रियाओं में अपरिहार्य उपयोगिता पाता है:

रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी): सब्सट्रेट्स पर पतली फिल्मों के नियंत्रित जमाव को सक्षम करना, जटिल सर्किट पैटर्न और डिवाइस संरचनाओं को बनाने के लिए महत्वपूर्ण है।

एनीलिंग और डिफ्यूजन: सामग्री के गुणों को बढ़ाने और सेमीकंडक्टर सब्सट्रेट्स के भीतर सटीक डोपिंग प्रोफाइल बनाने के लिए नियंत्रित गर्मी उपचार की सुविधा प्रदान करना।

ऑक्सीकरण और नक़्क़ाशी: डिवाइस अलगाव, इंटरकनेक्ट गठन और सतह संशोधन के लिए आवश्यक नियंत्रित ऑक्सीकरण और नक़्क़ाशी प्रक्रियाओं का समर्थन करना।

क्रिस्टल ग्रोथ: एपीटैक्सियल ग्रोथ के लिए आदर्श थर्मल वातावरण प्रदान करना, जिसके परिणामस्वरूप परिभाषित क्रिस्टल ओरिएंटेशन के साथ उच्च गुणवत्ता वाली क्रिस्टलीय परतों का निर्माण होता है।