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SiC-लेपित गैस डायवर्जन डिस्क

SiC-लेपित गैस डायवर्जन डिस्क

सेमीकोरेक्स SiC-लेपित गैस डायवर्जन डिस्क सेमीकंडक्टर एपिटैक्सियल उपकरण में लगाए जाने वाले अपरिहार्य ग्रेफाइट घटक हैं, जो विशेष रूप से प्रतिक्रिया गैस प्रवाह को विनियमित करने और प्रतिक्रिया कक्ष के भीतर समान गैस वितरण को बढ़ावा देने के लिए इंजीनियर किए गए हैं। सेमीकोरेक्स चुनें, उच्च गुणवत्ता वाले वेफर एपिटैक्सियल परिणामों के लिए इष्टतम गैस डायवर्जन समाधान चुनें।

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उत्पाद वर्णन

उन्नत सेमीकंडक्टर-ग्रेड सामग्री और अत्याधुनिक विनिर्माण प्रौद्योगिकियों के बेहतरीन उदाहरण के रूप में खड़ा सेमीकोरेक्सSiC लेपितगैस डायवर्जन डिस्क सटीक रूप से उच्च शुद्धता वाले ग्रेफाइट से निर्मित होती हैं, क्योंकि उनके मैट्रिक्स रासायनिक वाष्प जमाव के माध्यम से घने SiC कोटिंग के साथ होते हैं। गैस डायवर्जन डिस्क को मुख्य रूप से प्रसंस्करण के दौरान पूर्ण प्रतिक्रिया सुनिश्चित करने के लिए वेफर सतह पर प्रतिक्रिया गैस को समान रूप से वितरित करने के लिए डिज़ाइन किया गया है, जिससे सुसंगत और समान एकल-क्रिस्टल पतली फिल्मों के निर्माण की सुविधा मिलती है।


सेमीकोरेक्स SiC-लेपित गैस डायवर्जन डिस्क के फायदे

1. उच्च सामग्री शुद्धता

सेमीकोरेक्स सावधानीपूर्वक सामग्री चयन से लेकर कड़े उत्पाद गुणवत्ता मानकों को कायम रखता है। कच्चे माल के इस सख्त शुद्धता नियंत्रण के लिए धन्यवाद, सेमीकोरेक्स SiC-लेपित गैस डायवर्जन डिस्क कम अशुद्धता सामग्री प्रदान करती है और उत्कृष्ट सफाई का दावा करती है। यह धातु आयनों और अन्य संदूषकों को सेमीकंडक्टर एपिटैक्सियल प्रक्रियाओं से समझौता करने से महत्वपूर्ण रूप से रोक सकता है।


2.सुपीरियर थर्मल स्थिरता

इन प्रणालियों में उपयोग किए जाने वाले घटकों में असाधारण थर्मल स्थिरता की आवश्यकता होती है क्योंकि सेमीकंडक्टर एपिटैक्सियल उपकरण आमतौर पर 1400 डिग्री सेल्सियस से ऊपर के तापमान पर काम करते हैं। यह असाधारण थर्मल स्थिरता सुनिश्चित कर सकती है कि सेमीकोरेक्स SiC-लेपित गैस डायवर्जन डिस्क चुनौतीपूर्ण उच्च तापमान परिचालन स्थितियों का सामना कर सकती है और ऑपरेशन के दौरान उच्च तापमान के कारण होने वाली अशुद्धता रिलीज को प्रभावी ढंग से रोक सकती है, जो एपिटैक्सियल वेफर्स की गुणवत्ता और उपज की गारंटी देने में मदद करती है।


3. उल्लेखनीय उच्च तापमान संक्षारण प्रतिरोध

असुरक्षित ग्रेफाइट मैट्रिस में संक्षारण और कण निर्माण का खतरा होता है, यही कारण है कि गैस डायवर्जन डिस्क को उनके संक्षारण प्रतिरोध को बढ़ाने के लिए आमतौर पर सिलिकॉन कार्बाइड कोटिंग के साथ इलाज किया जाता है। सघन SiC कोटिंग से आच्छादित, सेमीकोरेक्स SiC-लेपित गैस डायवर्जन डिस्क उत्कृष्ट ऑक्सीकरण और रासायनिक संक्षारण प्रतिरोध प्रदान करती है, जो उन्हें चुनौतीपूर्ण उच्च तापमान और संक्षारक परिचालन स्थितियों के तहत भी लंबे समय तक सेवा जीवन में लगातार कार्य करने में सक्षम बनाती है।


4. लचीली अनुकूलन क्षमताएं

सेमीकोरेक्स कई उन्नत प्रसंस्करण उपकरणों से सुसज्जित है, जैसे कि सीएनसी मशीनिंग उपकरण, सतह पीसने वाली मशीनें और अल्ट्रासोनिक ड्रिलिंग उपकरण, जो अनुभवी प्रसंस्करण क्षमताओं की पेशकश करते हैं। सेमीकोरेक्स ग्राहकों के चित्र के अनुसार लचीली अनुकूलन सेवाएं प्रदान करने में सक्षम है और ग्राहकों के एपिटैक्सियल उपकरणों के साथ निर्बाध संगतता सुनिश्चित करने के लिए SiC-लेपित गैस डायवर्जन डिस्क के आयाम, सहनशीलता, सतह समतलता, छेद व्यास और छेद रिक्ति को तैयार करता है।


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