गैलियम नाइट्राइड (GaN) एपिटैक्सियल वेफर वृद्धि एक जटिल प्रक्रिया है, जिसमें अक्सर दो-चरणीय विधि का उपयोग किया जाता है। इस विधि में कई महत्वपूर्ण चरण शामिल हैं, जिनमें उच्च तापमान बेकिंग, बफर परत वृद्धि, पुन: क्रिस्टलीकरण और एनीलिंग शामिल हैं। इन चरणों में तापमान को सावधानीपूर्वक नियंत्रित करके, दो-च......
और पढ़ेंसिलिकॉन कार्बाइड (SiC) उद्योग श्रृंखला के भीतर, सब्सट्रेट आपूर्तिकर्ता महत्वपूर्ण लाभ उठाते हैं, मुख्य रूप से मूल्य वितरण के कारण। SiC सबस्ट्रेट्स कुल मूल्य का 47% है, इसके बाद एपिटैक्सियल परतें 23% हैं, जबकि डिवाइस डिज़ाइन और विनिर्माण शेष 30% है। यह उलटी मूल्य श्रृंखला सब्सट्रेट और एपिटैक्सियल परत......
और पढ़ेंSiC MOSFETs ट्रांजिस्टर हैं जो उच्च शक्ति घनत्व, बेहतर दक्षता और उच्च तापमान पर कम विफलता दर प्रदान करते हैं। SiC MOSFETs के ये फायदे इलेक्ट्रिक वाहनों (ईवी) को कई लाभ पहुंचाते हैं, जिनमें लंबी ड्राइविंग रेंज, तेज चार्जिंग और संभावित रूप से कम लागत वाली बैटरी इलेक्ट्रिक वाहन (बीईवी) शामिल हैं। पिछले......
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