2024-10-25
सिलिकॉन वेफरसेमीकंडक्टर निर्माण में सतह पॉलिशिंग एक महत्वपूर्ण प्रक्रिया है। इसका प्राथमिक लक्ष्य सूक्ष्म दोषों, तनाव क्षति की परतों और धातु आयनों जैसी अशुद्धियों से संदूषण को हटाकर सतह की समतलता और खुरदरापन के अत्यधिक उच्च मानकों को प्राप्त करना है। यह सुनिश्चित करता है किसिलिकॉन वेफ़र्सएकीकृत सर्किट (आईसी) सहित माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के लिए तैयारी आवश्यकताओं को पूरा करें।
पॉलिशिंग सटीकता की गारंटी के लिए,सिलिकॉन वेफरपॉलिशिंग प्रक्रिया को दो, तीन या चार अलग-अलग चरणों में व्यवस्थित किया जा सकता है। प्रत्येक चरण में दबाव, पॉलिशिंग तरल संरचना, कण आकार, एकाग्रता, पीएच मान, पॉलिशिंग कपड़ा सामग्री, संरचना, कठोरता, तापमान और प्रसंस्करण मात्रा सहित विभिन्न प्रसंस्करण स्थितियों को नियोजित किया जाता है।
के सामान्य चरणसिलिकॉन वेफरपॉलिशिंग इस प्रकार है:
1. **रफ़ पॉलिशिंग**: इस चरण का उद्देश्य आवश्यक ज्यामितीय आयामी सटीकता प्राप्त करते हुए, पूर्व प्रसंस्करण से सतह पर छोड़ी गई यांत्रिक तनाव क्षति परत को हटाना है। रफ पॉलिशिंग के लिए प्रसंस्करण मात्रा आमतौर पर 15-20μm से अधिक होती है।
2. **फाइन पॉलिशिंग**: इस चरण में, उच्च सतह की गुणवत्ता सुनिश्चित करने के लिए सिलिकॉन वेफर सतह की स्थानीय सपाटता और खुरदरापन को और भी कम किया जाता है। बारीक पॉलिशिंग के लिए प्रसंस्करण मात्रा लगभग 5-8μm है।
3. **"डिफॉगिंग" फाइन पॉलिशिंग**: यह कदम छोटे सतह दोषों को खत्म करने और वेफर की नैनो-आकृति विज्ञान विशेषताओं में सुधार करने पर केंद्रित है। इस प्रक्रिया के दौरान निकाली गई सामग्री की मात्रा लगभग 1μm है।
4. **अंतिम पॉलिशिंग**: अत्यंत कठोर लाइनविड्थ आवश्यकताओं (जैसे 0.13μm या 28nm से छोटे चिप्स) के साथ आईसी चिप प्रक्रियाओं के लिए, फाइन पॉलिशिंग और "डिफॉगिंग" फाइन पॉलिशिंग के बाद अंतिम पॉलिशिंग चरण आवश्यक है। यह सुनिश्चित करता है कि सिलिकॉन वेफर असाधारण मशीनिंग सटीकता और नैनोस्केल सतह विशेषताओं को प्राप्त करता है।
यह ध्यान रखना महत्वपूर्ण है कि केमिकल मैकेनिकल पॉलिशिंग (सीएमपी)।सिलिकॉन वेफरसतह आईसी तैयारी में वेफर सतह को समतल करने के लिए उपयोग की जाने वाली सीएमपी तकनीक से अलग है। जबकि दोनों विधियों में रासायनिक और यांत्रिक पॉलिशिंग का संयोजन शामिल है, उनकी स्थितियां, उद्देश्य और अनुप्रयोग काफी भिन्न हैं।
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