मोटी, उच्च शुद्धता वाली सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) परतें, आमतौर पर 1 मिमी से अधिक, सेमीकंडक्टर निर्माण और एयरोस्पेस प्रौद्योगिकियों सहित विभिन्न उच्च-मूल्य वाले अनुप्रयोगों में महत्वपूर्ण घटक हैं। यह लेख ऐसी परतों के निर्माण के लिए रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) प्रक्रिया पर प्रकाश डालता है, जिसमें प्रमुख......
और पढ़ेंसिंगल क्रिस्टल सिलिकॉन और पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन प्रत्येक के अपने अनूठे फायदे और लागू परिदृश्य हैं। सिंगल क्रिस्टल सिलिकॉन अपने उत्कृष्ट विद्युत और यांत्रिक गुणों के कारण उच्च प्रदर्शन वाले इलेक्ट्रॉनिक उत्पादों और माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक के लिए उपयुक्त है। दूसरी ओर, पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन अपनी कम लाग......
और पढ़ेंवेफर तैयारी की प्रक्रिया में, दो मुख्य लिंक हैं: एक सब्सट्रेट की तैयारी है, और दूसरा एपिटैक्सियल प्रक्रिया का कार्यान्वयन है। सब्सट्रेट, सेमीकंडक्टर सिंगल क्रिस्टल सामग्री से सावधानी से बना एक वेफर, सेमीकंडक्टर उपकरणों के उत्पादन के आधार के रूप में सीधे वेफर निर्माण प्रक्रिया में डाला जा सकता है, या......
और पढ़ेंरासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) एक बहुमुखी पतली-फिल्म जमाव तकनीक है जिसका व्यापक रूप से अर्धचालक उद्योग में विभिन्न सब्सट्रेट्स पर उच्च-गुणवत्ता, अनुरूप पतली फिल्में बनाने के लिए उपयोग किया जाता है। इस प्रक्रिया में गर्म सब्सट्रेट सतह पर गैसीय अग्रदूतों की रासायनिक प्रतिक्रियाएं शामिल होती हैं, जिसके प......
और पढ़ेंसिलिकॉन सामग्री कुछ अर्धचालक विद्युत गुणों और भौतिक स्थिरता के साथ एक ठोस सामग्री है, और बाद की एकीकृत सर्किट निर्माण प्रक्रिया के लिए सब्सट्रेट समर्थन प्रदान करती है। यह सिलिकॉन-आधारित एकीकृत सर्किट के लिए एक महत्वपूर्ण सामग्री है। दुनिया में 95% से अधिक अर्धचालक उपकरण और 90% से अधिक एकीकृत सर्किट ......
और पढ़ेंयह लेख सेमीकंडक्टर उद्योग के भीतर क्वार्ट्ज नौकाओं के संबंध में सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) नौकाओं के उपयोग और भविष्य के प्रक्षेप पथ पर प्रकाश डालता है, विशेष रूप से सौर सेल विनिर्माण में उनके अनुप्रयोगों पर ध्यान केंद्रित करता है।
और पढ़ें