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सूखी नक़्क़ाशी और गीली नक़्क़ाशी के फायदे और नुकसान क्या हैं?

सेमीकंडक्टर निर्माण में नक़्क़ाशी एक आवश्यक प्रक्रिया है। इस प्रक्रिया को दो प्रकारों में वर्गीकृत किया जा सकता है: सूखी नक़्क़ाशी और गीली नक़्क़ाशी। प्रत्येक तकनीक के अपने फायदे और सीमाएँ हैं, जिससे उनके बीच के अंतर को समझना महत्वपूर्ण हो जाता है। तो, आप सर्वोत्तम नक़्क़ाशी विधि कैसे चुनते हैं? सूख......

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SiC वृद्धि के लिए मुख्य सामग्री: टैंटलम कार्बाइड कोटिंग

वर्तमान तीसरी पीढ़ी के अर्धचालक मुख्य रूप से सिलिकॉन कार्बाइड पर आधारित हैं, जिसमें डिवाइस लागत का 47% सब्सट्रेट और 23% एपिटेक्सी का होता है, जो कुल मिलाकर लगभग 70% है और SiC डिवाइस निर्माण उद्योग का सबसे महत्वपूर्ण हिस्सा है।

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आयन प्रत्यारोपण और प्रसार प्रक्रिया

आयन प्रत्यारोपण सेमीकंडक्टर डोपिंग की एक विधि है और सेमीकंडक्टर निर्माण में मुख्य प्रक्रियाओं में से एक है।

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SiC और GaN पावर उपकरणों में आयन प्रत्यारोपण प्रौद्योगिकी की चुनौतियाँ

सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) और गैलियम नाइट्राइड (GaN) जैसे वाइड बैंडगैप (WBG) सेमीकंडक्टर से बिजली इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों में तेजी से महत्वपूर्ण भूमिका निभाने की उम्मीद है। वे पारंपरिक सिलिकॉन (Si) उपकरणों की तुलना में कई फायदे प्रदान करते हैं, जिनमें उच्च दक्षता, बिजली घनत्व और स्विचिंग आवृत्ति शामिल हैं।......

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सेमीकंडक्टर निर्माण में क्वार्ट्ज के विभिन्न अनुप्रयोग

पहली नज़र में, क्वार्ट्ज (SiO2) सामग्री कांच के समान दिखती है, लेकिन खास बात यह है कि साधारण कांच कई घटकों (जैसे क्वार्ट्ज रेत, बोरेक्स, बोरिक एसिड, बैराइट, बेरियम कार्बोनेट, चूना पत्थर, फेल्डस्पार, सोडा ऐश) से बना होता है। , आदि), जबकि क्वार्ट्ज में केवल SiO2 होता है, और इसकी सूक्ष्म संरचना सिलिकॉन......

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संपूर्ण सेमीकंडक्टर डिवाइस निर्माण प्रक्रिया को समझना

अर्धचालक उपकरणों के निर्माण में मुख्य रूप से चार प्रकार की प्रक्रियाएँ शामिल होती हैं: (1) फोटोलिथोग्राफी (2) डोपिंग तकनीक (3) फिल्म निक्षेपण (4) नक़्क़ाशी तकनीक इसमें शामिल विशिष्ट तकनीकों में फोटोलिथोग्राफी, आयन इम्प्लांटेशन, रैपिड थर्मल प्रोसेसिंग (आरटीपी), प्लाज्मा-एन्हांस्ड रासायनिक वाष्प......

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