सेमीकोरेक्स एलपीई हाफमून रिएक्शन चैंबर SiC एपिटेक्सी के कुशल और विश्वसनीय संचालन के लिए अपरिहार्य है, जो रखरखाव लागत को कम करने और परिचालन दक्षता में वृद्धि करते हुए उच्च गुणवत्ता वाली एपिटैक्सियल परतों का उत्पादन सुनिश्चित करता है। **
एपिटैक्सियल प्रक्रिया एलपीई हाफमून रिएक्शन चैंबर के भीतर होती है, जहां सब्सट्रेट उच्च तापमान और संक्षारक गैसों से जुड़ी चरम स्थितियों के संपर्क में आते हैं। प्रतिक्रिया कक्ष घटकों की दीर्घायु और प्रदर्शन सुनिश्चित करने के लिए, रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) SiC कोटिंग्स लागू की जाती हैं:
विस्तृत अनुप्रयोग:
संग्राहक और वेफर वाहक:
प्राथमिक भूमिका:
रिसेप्टर्स और वेफर कैरियर महत्वपूर्ण घटक हैं जो एलपीई हाफमून रिएक्शन चैंबर में एपिटैक्सियल विकास प्रक्रिया के दौरान सब्सट्रेट्स को सुरक्षित रूप से पकड़ते हैं। वे यह सुनिश्चित करने में महत्वपूर्ण भूमिका निभाते हैं कि सब्सट्रेट समान रूप से गर्म होते हैं और प्रतिक्रियाशील गैसों के संपर्क में आते हैं।
CVD SiC कोटिंग के लाभ:
ऊष्मीय चालकता:
SiC कोटिंग ससेप्टर की तापीय चालकता को बढ़ाती है, जिससे यह सुनिश्चित होता है कि गर्मी वेफर सतह पर समान रूप से वितरित होती है। लगातार एपिटैक्सियल विकास प्राप्त करने के लिए यह एकरूपता आवश्यक है।
संक्षारण प्रतिरोध:
SiC कोटिंग ससेप्टर को हाइड्रोजन और क्लोरीनयुक्त यौगिकों जैसी संक्षारक गैसों से बचाती है, जिनका उपयोग CVD प्रक्रिया में किया जाता है। यह सुरक्षा ससेप्टर के जीवनकाल को बढ़ाती है और एलपीई हाफमून रिएक्शन चैंबर में एपिटैक्सियल प्रक्रिया की अखंडता को बनाए रखती है।
प्रतिक्रिया कक्ष की दीवारें:
प्राथमिक भूमिका:
प्रतिक्रिया कक्ष की दीवारों में प्रतिक्रियाशील वातावरण होता है और एलपीई हाफमून रिएक्शन चैंबर में एपिटैक्सियल विकास प्रक्रिया के दौरान उच्च तापमान और संक्षारक गैसों के संपर्क में आते हैं।
CVD SiC कोटिंग के लाभ:
स्थायित्व:
एलपीई हाफमून रिएक्शन चैंबर की SiC कोटिंग चैंबर की दीवारों के स्थायित्व को महत्वपूर्ण रूप से बढ़ाती है, उन्हें जंग और शारीरिक टूट-फूट से बचाती है। यह स्थायित्व रखरखाव और प्रतिस्थापन की आवृत्ति को कम करता है, जिससे परिचालन लागत कम हो जाती है।
संदूषण निवारण:
चैम्बर की दीवारों की अखंडता को बनाए रखते हुए, SiC कोटिंग खराब होने वाली सामग्रियों से संदूषण के जोखिम को कम करती है, एक स्वच्छ प्रसंस्करण वातावरण सुनिश्चित करती है।
मुख्य लाभ:
बेहतर उपज:
वेफर्स की संरचनात्मक अखंडता को बनाए रखते हुए, एलपीई हाफमून रिएक्शन चैंबर उच्च उपज दरों का समर्थन करता है, जिससे सेमीकंडक्टर निर्माण प्रक्रिया अधिक कुशल और लागत प्रभावी हो जाती है।
संरचनात्मक मजबूती:
एलपीई हाफमून रिएक्शन चैंबर की SiC कोटिंग ग्रेफाइट सब्सट्रेट की यांत्रिक शक्ति को महत्वपूर्ण रूप से बढ़ाती है, जिससे वेफर वाहक अधिक मजबूत हो जाते हैं और बार-बार थर्मल साइक्लिंग के यांत्रिक तनाव को झेलने में सक्षम हो जाते हैं।
दीर्घायु:
बढ़ी हुई यांत्रिक शक्ति एलपीई हाफमून रिएक्शन चैंबर की समग्र दीर्घायु में योगदान करती है, जिससे बार-बार प्रतिस्थापन की आवश्यकता कम हो जाती है और परिचालन लागत भी कम हो जाती है।
बेहतर सतह गुणवत्ता:
नंगे ग्रेफाइट की तुलना में SiC कोटिंग के परिणामस्वरूप चिकनी सतह बनती है। यह चिकनी फिनिश कण उत्पादन को कम करती है, जो स्वच्छ प्रसंस्करण वातावरण को बनाए रखने के लिए महत्वपूर्ण है।
संदूषण में कमी:
एक चिकनी सतह वेफर पर संदूषण के जोखिम को कम करती है, अर्धचालक परतों की शुद्धता सुनिश्चित करती है और अंतिम उपकरणों की समग्र गुणवत्ता में सुधार करती है।
स्वच्छ प्रसंस्करण वातावरण:
सेमीकोरेक्स एलपीई हाफमून रिएक्शन चैंबर अनकोटेड ग्रेफाइट की तुलना में काफी कम कण उत्पन्न करता है, जो सेमीकंडक्टर निर्माण में प्रदूषण मुक्त वातावरण बनाए रखने के लिए आवश्यक है।
उच्च उपज दरें:
कण संदूषण कम होने से कम दोष और उच्च उपज दर होती है, जो अत्यधिक प्रतिस्पर्धी अर्धचालक उद्योग में महत्वपूर्ण कारक हैं।