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वेफर हैंडलिंग के लिए अंतिम प्रभावकारक

वेफर हैंडलिंग के लिए अंतिम प्रभावकारक

वेफर हैंडलिंग के लिए सेमीकोरेक्स एंड इफ़ेक्टर वेफ़र प्रसंस्करण के लिए आयामी रूप से सटीक और थर्मल रूप से स्थिर हैं। हम कई वर्षों से सिलिकॉन कार्बाइड कोटिंग तत्वों के निर्माता और आपूर्तिकर्ता रहे हैं। हमारे उत्पादों की कीमत अच्छी है और वे अधिकांश यूरोपीय और अमेरिकी बाजारों को कवर करते हैं। हम चीन में आपका दीर्घकालिक भागीदार बनने की आशा रखते हैं।

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उत्पाद वर्णन

वेफर हैंडलिंग के लिए सेमीकोरेक्स एंड इफ़ेक्टर आयामी रूप से सटीक और थर्मल रूप से स्थिर होते हैं, जबकि उपकरणों को नुकसान पहुंचाए बिना या कण संदूषण पैदा किए बिना वेफर्स को सुरक्षित रूप से संभालने के लिए एक चिकनी, घर्षण प्रतिरोधी सीवीडी सीआईसी कोटिंग फिल्म होती है, जो वेफर प्रसंस्करण उपकरण और वाहक में पदों के बीच सेमीकंडक्टर वेफर्स को स्थानांतरित कर सकती है। सटीक और कुशलतापूर्वक। वेफर हैंडलिंग के लिए हमारा उच्च शुद्धता वाला सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) कोटिंग एंड इफ़ेक्टर बेहतर गर्मी प्रतिरोध, लगातार एपि परत की मोटाई और प्रतिरोध के लिए थर्मल एकरूपता और टिकाऊ रासायनिक प्रतिरोध प्रदान करता है।

सेमीकोरेक्स में, हम अपने ग्राहकों को उच्च-गुणवत्ता, लागत प्रभावी उत्पाद प्रदान करने पर ध्यान केंद्रित करते हैं। वेफर हैंडलिंग के लिए हमारे अंतिम प्रभावकार का मूल्य लाभ है और इसे कई यूरोपीय और अमेरिकी बाजारों में निर्यात किया जाता है। हमारा लक्ष्य लगातार गुणवत्ता वाले उत्पाद और असाधारण ग्राहक सेवा प्रदान करते हुए आपका दीर्घकालिक भागीदार बनना है।


वेफर हैंडलिंग के लिए अंतिम प्रभावक के पैरामीटर

सीवीडी-एसआईसी कोटिंग की मुख्य विशिष्टताएँ

SiC-CVD गुण

क्रिस्टल की संरचना

एफसीसी β चरण

घनत्व

जी/सेमी ³

3.21

कठोरता

विकर्स कठोरता

2500

अनाज आकार

माइक्रोन

2~10

रासायनिक शुद्धता

%

99.99995

ताप की गुंजाइश

जे किग्रा-1 के-1

640

ऊर्ध्वपातन तापमान

2700

फेलेक्सुरल ताकत

एमपीए (आरटी 4-पॉइंट)

415

यंग का मापांक

जीपीए (4पीटी बेंड, 1300℃)

430

थर्मल विस्तार (सी.टी.ई.)

10-6K -1

4.5

ऊष्मीय चालकता

(डब्ल्यू/एमके)

300


वेफर हैंडलिंग के लिए अंतिम प्रभावक की विशेषताएं

उच्च शुद्धता वाली SiC कोटिंग में CVD विधि का उपयोग किया गया

बेहतर गर्मी प्रतिरोध और थर्मल एकरूपता

चिकनी सतह के लिए महीन SiC क्रिस्टल लेपित

रासायनिक सफाई के खिलाफ उच्च स्थायित्व

सामग्री को डिज़ाइन किया गया है ताकि दरारें और प्रदूषण न हो।




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