सेमीकोरेक्स में, हमने एलईडी के लिए पीएसएस एचिंग कैरियर ट्रे को विशेष रूप से एपिटैक्सियल विकास और वेफर हैंडलिंग प्रक्रियाओं के लिए आवश्यक कठोर वातावरण के लिए डिज़ाइन किया है। हमारा अल्ट्रा-प्योर ग्रेफाइट कैरियर एमओसीवीडी, एपिटेक्सी ससेप्टर्स, पैनकेक या सैटेलाइट प्लेटफॉर्म जैसे पतली-फिल्म जमाव चरणों और नक़्क़ाशी जैसे वेफर हैंडलिंग प्रसंस्करण के लिए आदर्श है। SiC लेपित वाहक में उच्च ताप और संक्षारण प्रतिरोध, उत्कृष्ट ताप वितरण गुण और उच्च तापीय चालकता होती है। एलईडी के लिए हमारा पीएसएस एचिंग कैरियर ट्रे लागत प्रभावी है और अच्छी कीमत का लाभ प्रदान करता है। हम कई यूरोपीय और अमेरिकी बाज़ारों को सेवा प्रदान करते हैं और चीन में आपका दीर्घकालिक भागीदार बनने के लिए तत्पर हैं।
एलईडी के लिए सेमीकोरेक्स की पीएसएस एचिंग कैरियर ट्रे को एपिटैक्सियल विकास और वेफर हैंडलिंग प्रक्रियाओं के लिए आवश्यक कठोर वातावरण के लिए इंजीनियर किया गया है। हमारे अल्ट्रा-प्योर ग्रेफाइट कैरियर को एमओसीवीडी और एपिटेक्सी ससेप्टर्स, पैनकेक या सैटेलाइट प्लेटफॉर्म जैसे पतली-फिल्म जमाव चरणों के दौरान वेफर्स का समर्थन करने के लिए डिज़ाइन किया गया है। SiC लेपित वाहक में उच्च ताप और संक्षारण प्रतिरोध, उत्कृष्ट ताप वितरण गुण और उच्च तापीय चालकता होती है। हमारे उत्पाद लागत-प्रभावी हैं और इनका मूल्य लाभ भी अच्छा है। हम कई यूरोपीय और अमेरिकी बाज़ारों को सेवा प्रदान करते हैं और चीन में आपका दीर्घकालिक भागीदार बनने के लिए तत्पर हैं।
एलईडी के लिए हमारे पीएसएस एचिंग कैरियर ट्रे के बारे में अधिक जानने के लिए आज ही हमसे संपर्क करें।
एलईडी के लिए पीएसएस एचिंग कैरियर ट्रे के पैरामीटर
सीवीडी-एसआईसी कोटिंग की मुख्य विशिष्टताएँ |
||
SiC-सीवीडी गुण |
||
क्रिस्टल की संरचना |
एफसीसी β चरण |
|
घनत्व |
जी/सेमी ³ |
3.21 |
कठोरता |
विकर्स कठोरता |
2500 |
अनाज आकार |
माइक्रोन |
2~10 |
रासायनिक शुद्धता |
% |
99.99995 |
ताप की गुंजाइश |
जे किग्रा-1 के-1 |
640 |
उर्ध्वपातन तापमान |
℃ |
2700 |
फेलेक्सुरल ताकत |
एमपीए (आरटी 4-पॉइंट) |
415 |
यंग का मापांक |
जीपीए (4पीटी बेंड, 1300℃) |
430 |
थर्मल विस्तार (सी.टी.ई.) |
10-6K -1 |
4.5 |
ऊष्मीय चालकता |
(डब्ल्यू/एमके) |
300 |
एलईडी के लिए पीएसएस एचिंग कैरियर ट्रे की विशेषताएं
- छीलने से बचें और पूरी सतह पर कोटिंग सुनिश्चित करें
उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोध: 1600 डिग्री सेल्सियस तक उच्च तापमान पर स्थिर
उच्च शुद्धता: उच्च तापमान क्लोरीनीकरण स्थितियों के तहत सीवीडी रासायनिक वाष्प जमाव द्वारा बनाई गई।
संक्षारण प्रतिरोध: उच्च कठोरता, घनी सतह और महीन कण।
संक्षारण प्रतिरोध: अम्ल, क्षार, नमक और कार्बनिक अभिकर्मक।
- सर्वोत्तम लेमिनर गैस प्रवाह पैटर्न प्राप्त करें
- थर्मल प्रोफाइल की समरूपता की गारंटी
- किसी भी संदूषण या अशुद्धियों के प्रसार को रोकें