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कांच जैसी कार्बन कोटिंग के साथ कठोर फेल्ट

कांच जैसी कार्बन कोटिंग के साथ कठोर फेल्ट

ग्लास जैसी कार्बन कोटिंग के साथ सेमीकोरेक्स रिजिड फेल्ट एक उच्च-प्रदर्शन इन्सुलेशन सामग्री है जो खरोंच-प्रतिरोधी, धूल को कम करने वाली ग्लास जैसी कार्बन कोटिंग के साथ महसूस किए गए कार्बन फाइबर के स्थायित्व को जोड़ती है। उन्नत कोटिंग प्रौद्योगिकियों में सेमीकोरेक्स की विशेषज्ञता उच्च तापमान और सटीक-संवेदनशील अनुप्रयोगों की मांगों को पूरा करते हुए असाधारण स्थायित्व और सफाई सुनिश्चित करती है।*

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कठोर फेल्ट क्रूसिबल

कठोर फेल्ट क्रूसिबल

सेमीकोरेक्स रिजिड फेल्ट क्रूसिबल सेमीकंडक्टर उद्योग में उच्च तापमान अनुप्रयोगों के लिए एक प्रीमियम विकल्प के रूप में खड़ा है। इसकी उच्च संपीड़न शक्ति और उत्कृष्ट थर्मल इन्सुलेशन का संयोजन इसे क्रिस्टल विकास प्रक्रियाओं में एक विश्वसनीय और कुशल घटक बनाता है। सेमीकोरेक्स रिजिड फेल्ट क्रूसिबल को चुनकर, आप एक ऐसे उत्पाद में निवेश करते हैं जो न केवल आपकी विनिर्माण क्षमताओं को बढ़ाता है बल्कि गुणवत्ता और प्रदर्शन के प्रति आपकी प्रतिबद्धता का भी समर्थन करता है। *

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ग्रेफाइट कठोर लगा

ग्रेफाइट कठोर लगा

सेमीकोरेक्स ग्रेफाइट रिजिड फेल्ट एक उच्च प्रदर्शन सामग्री है जो उच्च तापमान अनुप्रयोगों के लिए डिज़ाइन की गई है, जो असाधारण संपीड़न शक्ति और बेहतर थर्मल इन्सुलेशन प्रदान करती है। उच्च औद्योगिक लक्ष्यों को प्राप्त करने में सेमीकोरेक्स को अपना विश्वसनीय भागीदार बनने दें।*

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एमओसीवीडी वेफरधारक

एमओसीवीडी वेफरधारक

सेमीकोरेक्स एमओसीवीडी वेफरहोल्डर SiC एपिटैक्सी विकास के लिए एक अनिवार्य घटक है, जो बेहतर थर्मल प्रबंधन, रासायनिक प्रतिरोध और आयामी स्थिरता प्रदान करता है। सेमीकोरेक्स के वेफरहोल्डर को चुनकर, आप अपनी एमओसीवीडी प्रक्रियाओं के प्रदर्शन को बढ़ाते हैं, जिससे उच्च गुणवत्ता वाले उत्पाद और आपके सेमीकंडक्टर विनिर्माण कार्यों में अधिक दक्षता प्राप्त होती है। *

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एपिटैक्सी घटक

एपिटैक्सी घटक

उन्नत सेमीकंडक्टर अनुप्रयोगों के लिए उच्च गुणवत्ता वाले SiC सब्सट्रेट के उत्पादन में सेमीकोरेक्स एपिटैक्सी घटक एक महत्वपूर्ण तत्व है, जो एलपीई रिएक्टर सिस्टम के लिए एक विश्वसनीय विकल्प है। सेमीकोरेक्स एपिटैक्सी कंपोनेंट का चयन करके, ग्राहक अपने निवेश में आश्वस्त हो सकते हैं और प्रतिस्पर्धी सेमीकंडक्टर बाजार में अपनी उत्पादन क्षमताओं को बढ़ा सकते हैं।*

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पीबीएन सिरेमिक डिस्क

पीबीएन सिरेमिक डिस्क

सेमीकोरेक्स द्वारा पीबीएन सिरेमिक डिस्क को एक जटिल रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) प्रक्रिया के माध्यम से संश्लेषित किया जाता है, जो ऊंचे तापमान और कम दबाव पर बोरॉन ट्राइक्लोराइड (बीसीएल 3) और अमोनिया (एनएच 3) का उपयोग करता है। संश्लेषण की इस विधि के परिणामस्वरूप असाधारण शुद्धता और संरचनात्मक अखंडता की सामग्री प्राप्त होती है, जो इसे अर्धचालक उद्योग के भीतर विभिन्न अनुप्रयोगों के लिए अपरिहार्य बनाती है।**

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