सेमीकंडक्टर उद्योग के लिए सेमीकोरेक्स एमओसीवीडी वेफर कैरियर सेमीकंडक्टर उद्योग में उपयोग के लिए डिज़ाइन किया गया एक शीर्ष श्रेणी का कैरियर है। इसकी उच्च शुद्धता वाली सामग्री समान थर्मल प्रोफाइल और लैमिनर गैस प्रवाह पैटर्न सुनिश्चित करती है, जिससे उच्च गुणवत्ता वाले वेफर्स मिलते हैं।
सेमीकंडक्टर उद्योग के लिए हमारा एमओसीवीडी वेफर कैरियर अत्यधिक शुद्ध है, जो उच्च तापमान क्लोरीनीकरण स्थितियों के तहत सीवीडी रासायनिक वाष्प जमाव द्वारा बनाया गया है, जो उत्पाद की एकरूपता और स्थिरता सुनिश्चित करता है। यह घनी सतह और महीन कणों के साथ अत्यधिक संक्षारण प्रतिरोधी भी है, जो इसे एसिड, क्षार, नमक और कार्बनिक अभिकर्मकों के प्रति प्रतिरोधी बनाता है। इसका उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोध 1600 डिग्री सेल्सियस तक उच्च तापमान पर स्थिरता सुनिश्चित करता है।
सेमीकंडक्टर उद्योग के लिए हमारे एमओसीवीडी वेफर कैरियर के बारे में अधिक जानने के लिए आज ही हमसे संपर्क करें।
सेमीकंडक्टर उद्योग के लिए एमओसीवीडी वेफर कैरियर के पैरामीटर
सीवीडी-एसआईसी कोटिंग की मुख्य विशिष्टताएँ |
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SiC-सीवीडी गुण |
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क्रिस्टल की संरचना |
एफसीसी β चरण |
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घनत्व |
जी/सेमी ³ |
3.21 |
कठोरता |
विकर्स कठोरता |
2500 |
अनाज आकार |
माइक्रोन |
2~10 |
रासायनिक शुद्धता |
% |
99.99995 |
ताप की गुंजाइश |
जे किग्रा-1 के-1 |
640 |
ऊर्ध्वपातन तापमान |
℃ |
2700 |
फेलेक्सुरल ताकत |
एमपीए (आरटी 4-पॉइंट) |
415 |
यंग का मापांक |
जीपीए (4पीटी बेंड, 1300℃) |
430 |
थर्मल विस्तार (सी.टी.ई.) |
10-6K -1 |
4.5 |
ऊष्मीय चालकता |
(डब्ल्यू/एमके) |
300 |
एमओसीवीडी के लिए एसआईसी लेपित ग्रेफाइट ससेप्टर की विशेषताएं
- छीलने से बचें और पूरी सतह पर कोटिंग सुनिश्चित करें
उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोध: 1600 डिग्री सेल्सियस तक उच्च तापमान पर स्थिर
उच्च शुद्धता: उच्च तापमान क्लोरीनीकरण स्थितियों के तहत सीवीडी रासायनिक वाष्प जमाव द्वारा बनाई गई।
संक्षारण प्रतिरोध: उच्च कठोरता, घनी सतह और महीन कण।
संक्षारण प्रतिरोध: अम्ल, क्षार, नमक और कार्बनिक अभिकर्मक।
- सर्वोत्तम लेमिनर गैस प्रवाह पैटर्न प्राप्त करें
- थर्मल प्रोफाइल की समरूपता की गारंटी
- किसी भी संदूषण या अशुद्धियों के प्रसार को रोकें