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वेफर एपिटैक्सी के लिए एमओसीवीडी कवर स्टार डिस्क प्लेट

वेफर एपिटैक्सी के लिए एमओसीवीडी कवर स्टार डिस्क प्लेट

सेमीकोरेक्स वेफर एपिटैक्सी के लिए उच्च गुणवत्ता वाली एमओसीवीडी कवर स्टार डिस्क प्लेट का एक प्रसिद्ध निर्माता और आपूर्तिकर्ता है। हमारा उत्पाद विशेष रूप से सेमीकंडक्टर उद्योग की जरूरतों को पूरा करने के लिए डिज़ाइन किया गया है, विशेष रूप से वेफर चिप पर एपिटैक्सियल परत को बढ़ाने में। हमारे ससेप्टर का उपयोग गियर या रिंग के आकार के डिजाइन के साथ एमओसीवीडी में केंद्र प्लेट के रूप में किया जाता है। यह उत्पाद उच्च ताप और संक्षारण के प्रति अत्यधिक प्रतिरोधी है, जो इसे चरम वातावरण में उपयोग के लिए आदर्श बनाता है।

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उत्पाद वर्णन

वेफर एपिटैक्सी के लिए हमारी एमओसीवीडी कवर स्टार डिस्क प्लेट एक उत्कृष्ट उत्पाद है जो सभी सतहों पर कोटिंग सुनिश्चित करती है, इस प्रकार छीलने से बचती है। इसमें उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोध है जो 1600 डिग्री सेल्सियस तक के उच्च तापमान पर भी स्थिरता सुनिश्चित करता है। उत्पाद उच्च तापमान क्लोरीनीकरण स्थितियों के तहत सीवीडी रासायनिक वाष्प जमाव के माध्यम से उच्च शुद्धता के साथ बनाया जाता है। इसकी सतह बारीक कणों से युक्त घनी होती है, जो इसे अम्ल, क्षार, नमक और कार्बनिक अभिकर्मकों से होने वाले संक्षारण के प्रति अत्यधिक प्रतिरोधी बनाती है।
वेफर एपिटैक्सी के लिए हमारी एमओसीवीडी कवर स्टार डिस्क प्लेट सर्वोत्तम लैमिनर गैस प्रवाह पैटर्न की गारंटी देती है, जो थर्मल प्रोफाइल की समरूपता सुनिश्चित करती है। यह किसी भी संदूषण या अशुद्धियों के प्रसार को रोकता है, वेफर चिप पर उच्च गुणवत्ता वाले एपिटैक्सियल विकास को सुनिश्चित करता है। हमारे उत्पाद की कीमत प्रतिस्पर्धी है, जो इसे कई ग्राहकों के लिए सुलभ बनाती है। हम कई यूरोपीय और अमेरिकी बाज़ारों को कवर करते हैं, और हमारी टीम उत्कृष्ट ग्राहक सेवा और सहायता प्रदान करने के लिए समर्पित है। हम वेफर एपिटैक्सी के लिए उच्च गुणवत्ता और विश्वसनीय एमओसीवीडी कवर स्टार डिस्क प्लेट प्रदान करने में आपका दीर्घकालिक भागीदार बनने का प्रयास करते हैं।


वेफर एपिटैक्सी के लिए एमओसीवीडी कवर स्टार डिस्क प्लेट के पैरामीटर

सीवीडी-एसआईसी कोटिंग की मुख्य विशिष्टताएँ

SiC-CVD गुण

क्रिस्टल की संरचना

एफसीसी β चरण

घनत्व

जी/सेमी ³

3.21

कठोरता

विकर्स कठोरता

2500

अनाज आकार

माइक्रोन

2~10

रासायनिक शुद्धता

%

99.99995

ताप की गुंजाइश

जे किग्रा-1 के-1

640

उर्ध्वपातन तापमान

2700

फेलेक्सुरल ताकत

एमपीए (आरटी 4-पॉइंट)

415

यंग का मापांक

जीपीए (4पीटी बेंड, 1300℃)

430

थर्मल विस्तार (सी.टी.ई.)

10-6K -1

4.5

ऊष्मीय चालकता

(डब्ल्यू/एमके)

300


वेफर एपिटैक्सी के लिए एमओसीवीडी कवर स्टार डिस्क प्लेट की विशेषताएं

- छीलने से बचें और पूरी सतह पर कोटिंग सुनिश्चित करें
उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोध: 1600 डिग्री सेल्सियस तक उच्च तापमान पर स्थिर
उच्च शुद्धता: उच्च तापमान क्लोरीनीकरण स्थितियों के तहत सीवीडी रासायनिक वाष्प जमाव द्वारा बनाई गई।
संक्षारण प्रतिरोध: उच्च कठोरता, घनी सतह और महीन कण।
संक्षारण प्रतिरोध: अम्ल, क्षार, नमक और कार्बनिक अभिकर्मक।
- सर्वोत्तम लेमिनर गैस प्रवाह पैटर्न प्राप्त करें
- थर्मल प्रोफाइल की समरूपता की गारंटी
- किसी भी संदूषण या अशुद्धियों के प्रसार को रोकें




हॉट टैग: वेफर एपिटैक्सी के लिए एमओसीवीडी कवर स्टार डिस्क प्लेट, चीन, निर्माता, आपूर्तिकर्ता, फैक्टरी, अनुकूलित, थोक, उन्नत, टिकाऊ
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