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उच्च शुद्धता वाली झरझरा ग्रेफाइट सामग्री, जिसका उदाहरण विशेष रूप से सेमीकोरेक्स पोरस ग्रेफाइट है, सेमीकंडक्टर उद्योग में SiC (सिलिकॉन कार्बाइड) एकल क्रिस्टल विकास के लिए उपयोग की जाने वाली सामग्रियों में शिखर के रूप में खड़ी है। इस विशेष ग्रेफाइट सामग्री को अति-उच्च शुद्धता और असाधारण खुले सरंध्रता पर सावधानीपूर्वक ध्यान देने के साथ इंजीनियर किया गया है, जो इसे क्रिस्टल विकास प्रक्रियाओं में मांग वाले अनुप्रयोगों के लिए एक शीर्ष विकल्प बनाता है।
सेमीकोरेक्स पोरस ग्रेफाइट की विशिष्ट विशेषता इसकी अद्वितीय शुद्धता में निहित है, जो न्यूनतम अशुद्धियों को सुनिश्चित करती है जो सेमीकंडक्टर निर्माण प्रक्रिया की अखंडता से समझौता कर सकती है। शुद्धता का यह उच्च स्तर SiC एकल क्रिस्टल विकास के लिए आवश्यक है, क्योंकि कोई भी संदूषक परिणामी अर्धचालक सामग्री के विद्युत और संरचनात्मक गुणों पर प्रतिकूल प्रभाव डाल सकता है।
इसके अलावा, सेमीकोरेक्स पोरस ग्रेफाइट उच्च खुली पोरोसिटी का दावा करता है, जो कुशल और नियंत्रित क्रिस्टल विकास के लिए एक प्रमुख विशेषता है। खुला छिद्र क्रिस्टल विकास प्रक्रिया के दौरान गैस प्रवाह और गर्मी वितरण के सटीक नियंत्रण की सुविधा प्रदान करता है, जो समान गुणों के साथ उच्च गुणवत्ता वाले SiC एकल क्रिस्टल के उत्पादन में योगदान देता है।
सामग्री की सर्वोच्च गुणवत्ता इसकी रासायनिक और भौतिक विशेषताओं से परे फैली हुई है। सेमीकोरेक्स पोरस ग्रेफाइट को सेमीकंडक्टर उद्योग की कठोर आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए सावधानीपूर्वक तैयार और उपचारित किया जाता है। इसकी विश्वसनीयता, स्थिरता और प्रदर्शन इसे SiC सिंगल क्रिस्टल विकास में लगे सेमीकंडक्टर निर्माताओं के लिए पसंदीदा विकल्प बनाता है।