सेमीकंडक्टर प्रसंस्करण में सुधार के लिए सेमीकोरेक्स आपका भागीदार है। हमारी सिलिकॉन कार्बाइड कोटिंग्स घनी, उच्च तापमान और रासायनिक प्रतिरोधी हैं, जिनका उपयोग अक्सर सेमीकंडक्टर निर्माण के पूरे चक्र में किया जाता है, जिसमें सेमीकंडक्टर वेफर और वेफर प्रसंस्करण और सेमीकंडक्टर निर्माण शामिल हैं।
सेमीकंडक्टर में प्रक्रियाओं के लिए उच्च शुद्धता वाले SiC सिरेमिक घटक महत्वपूर्ण हैं। हमारी पेशकश में वेफर प्रसंस्करण उपकरण के लिए उपभोग्य भागों से लेकर एपिटैक्सी या एमओसीवीडी के लिए सिलिकॉन कार्बाइड वेफर बोट, कैंटिलीवर पैडल, ट्यूब आदि शामिल हैं।
अर्धचालक प्रक्रियाओं के लिए लाभ
पतली फिल्म जमाव चरण जैसे एपिटैक्सी या एमओसीवीडी, या वेफर हैंडलिंग प्रसंस्करण जैसे नक़्क़ाशी या आयन प्रत्यारोपण को उच्च तापमान और कठोर रासायनिक सफाई को सहन करना होगा। सेमीकोरेक्स उच्च शुद्धता वाले सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) निर्माण की आपूर्ति करता है जो बेहतर गर्मी प्रतिरोध और टिकाऊ रासायनिक प्रतिरोध प्रदान करता है, यहां तक कि लगातार एपि परत मोटाई और प्रतिरोध के लिए थर्मल एकरूपता भी प्रदान करता है।
चैम्बर ढक्कन →
क्रिस्टल विकास और वेफर हैंडलिंग प्रसंस्करण में उपयोग किए जाने वाले चैंबर ढक्कन को उच्च तापमान और कठोर रासायनिक सफाई को सहन करना चाहिए।
ब्रैकट चप्पू →
कैंटिलीवर पैडल सेमीकंडक्टर निर्माण प्रक्रियाओं में उपयोग किया जाने वाला एक महत्वपूर्ण घटक है, विशेष रूप से प्रसार और आरटीपी जैसी प्रक्रियाओं के दौरान प्रसार या एलपीसीवीडी भट्टियों में।
प्रक्रिया ट्यूब →
प्रोसेस ट्यूब एक महत्वपूर्ण घटक है, जिसे विशेष रूप से आरटीपी, प्रसार जैसे विभिन्न अर्धचालक प्रसंस्करण अनुप्रयोगों में डिज़ाइन किया गया है।
वेफर नावें →
वेफर बोट का उपयोग सेमीकंडक्टर प्रसंस्करण में किया जाता है, इसे यह सुनिश्चित करने के लिए सावधानीपूर्वक डिजाइन किया गया है कि उत्पादन के महत्वपूर्ण चरणों के दौरान नाजुक वेफर्स को सुरक्षित रखा जाए।
इनलेट रिंग्स →
एमओसीवीडी उपकरण द्वारा सीआईसी लेपित गैस इनलेट रिंग में यौगिक वृद्धि में उच्च गर्मी और संक्षारण प्रतिरोध होता है, जिसमें चरम वातावरण में बड़ी स्थिरता होती है।
फोकस रिंग →
सेमीकोरेक्स आपूर्ति सिलिकॉन कार्बाइड लेपित फोकस रिंग आरटीए, आरटीपी या कठोर रासायनिक सफाई के लिए वास्तव में स्थिर है।
वेफर चक →
सेमीकोरेक्स अल्ट्रा-फ्लैट सिरेमिक वैक्यूम वेफर चक वेफर हैंडलिंग प्रक्रिया में उपयोग करके उच्च शुद्धता वाले SiC लेपित हैं।
सेमीकोरेक्स में एल्युमिना (Al2O3), सिलिकॉन नाइट्राइड (Si3N4), एल्युमीनियम नाइट्राइड (AIN), ज़िरकोनिया (ZrO2), कम्पोजिट सिरेमिक, आदि में सिरेमिक उत्पाद भी हैं।
सेमीकोरेक्स द्वारा Si3N4 स्लीव एक बहुमुखी और उच्च प्रदर्शन वाली सामग्री है जो कम घनत्व, बेहतर कठोरता, उत्कृष्ट पहनने के प्रतिरोध और असाधारण थर्मल और रासायनिक स्थिरता का एक अद्वितीय संयोजन प्रदान करती है।**
और पढ़ेंजांच भेजेंसेमीकोरेक्स पोरस सिरेमिक वैक्यूम चक का प्राथमिक कार्य एक समान हवा और पानी की पारगम्यता प्रदान करने की क्षमता में निहित है, एक ऐसी सुविधा जो सिलिकॉन वेफर्स के तनाव और मजबूत आसंजन के समान वितरण को सुनिश्चित करती है। पीसने की प्रक्रिया के दौरान यह विशेषता महत्वपूर्ण है, क्योंकि यह वेफर को फिसलने से रोकती है, जिससे ऑपरेशन की अखंडता बनी रहती है।**
और पढ़ेंजांच भेजेंसेमीकोरेक्स एल्यूमिना ट्यूब विभिन्न औद्योगिक अनुप्रयोगों में एक महत्वपूर्ण घटक है, जो कठोर वातावरण और उच्च तापमान का सामना करने की क्षमता के लिए प्रसिद्ध है।**
और पढ़ेंजांच भेजेंसेमीकोरेक्स द्वारा पीबीएन सिरेमिक डिस्क को एक जटिल रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) प्रक्रिया के माध्यम से संश्लेषित किया जाता है, जो ऊंचे तापमान और कम दबाव पर बोरॉन ट्राइक्लोराइड (बीसीएल 3) और अमोनिया (एनएच 3) का उपयोग करता है। संश्लेषण की इस विधि के परिणामस्वरूप असाधारण शुद्धता और संरचनात्मक अखंडता की सामग्री प्राप्त होती है, जो इसे अर्धचालक उद्योग के भीतर विभिन्न अनुप्रयोगों के लिए अपरिहार्य बनाती है।**
और पढ़ेंजांच भेजेंसेमीकोरेक्स ZrO2 क्रूसिबल को स्थिर ज़िरकोनिया सिरेमिक से तैयार किया गया है, जो वजन प्रतिशत के हिसाब से 94.7% ज़िरकोनियम डाइऑक्साइड (ZrO2) और 5.2% yttrium ऑक्साइड (Y2O3) या वैकल्पिक रूप से, 97% ZrO2 और 3% Y2O3 mol प्रतिशत के हिसाब से एक मानक संरचना प्रस्तुत करता है। यह सटीक फॉर्मूलेशन ZrO2 क्रूसिबल को लाभप्रद विशेषताओं का एक सेट प्रदान करता है जो विशेष रूप से उच्च-प्रदर्शन औद्योगिक प्रक्रियाओं की मांगों को पूरा करता है।**
और पढ़ेंजांच भेजेंसेमीकोरेक्स Al2O3 कटिंग ब्लेड को विभिन्न उद्योगों में कटिंग प्रक्रियाओं की कठोर मांगों को पूरा करने के लिए सावधानीपूर्वक इंजीनियर किया गया है, जिसमें फिल्म और फ़ॉइल, चिकित्सा अनुप्रयोग और इलेक्ट्रॉनिक घटकों की जटिल असेंबली शामिल है, लेकिन यह इन्हीं तक सीमित नहीं है।**
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