सेमीकोरेक्स ZrO2 क्रूसिबल को स्थिर ज़िरकोनिया सिरेमिक से तैयार किया गया है, जो वजन प्रतिशत के हिसाब से 94.7% ज़िरकोनियम डाइऑक्साइड (ZrO2) और 5.2% yttrium ऑक्साइड (Y2O3) या वैकल्पिक रूप से, 97% ZrO2 और 3% Y2O3 mol प्रतिशत के हिसाब से एक मानक संरचना प्रस्तुत करता है। यह सटीक फॉर्मूलेशन ZrO2 क्रूसिबल को लाभप्रद विशेषताओं का एक सेट प्रदान करता है जो विशेष रूप से उच्च-प्रदर्शन औद्योगिक प्रक्रियाओं की मांगों को पूरा करता है।**
और पढ़ेंजांच भेजेंसेमीकोरेक्स Al2O3 कटिंग ब्लेड को विभिन्न उद्योगों में कटिंग प्रक्रियाओं की कठोर मांगों को पूरा करने के लिए सावधानीपूर्वक इंजीनियर किया गया है, जिसमें फिल्म और फ़ॉइल, चिकित्सा अनुप्रयोग और इलेक्ट्रॉनिक घटकों की जटिल असेंबली शामिल है, लेकिन यह इन्हीं तक सीमित नहीं है।**
और पढ़ेंजांच भेजेंग्लास-लाइक कार्बन कोटेड रिजिड फेल्ट, सेमीकोरेक्स का एक सिग्नेचर उत्पाद, इसमें कार्बन फाइबर कठोर फेल्ट सब्सट्रेट होता है जो ग्लास जैसी कार्बन कोटिंग से ढका होता है, जो ग्लास जैसे कार्बन की असाधारण सतह गुणों के साथ फेल्ट की अंतर्निहित ताकत को जोड़ता है। . साथ मिलकर, वे एक ऐसी सामग्री बनाते हैं जो विषम परिस्थितियों में भी अपने प्रदर्शन के लिए विशिष्ट होती है।**
और पढ़ेंजांच भेजेंसेमीकोरेक्स SiC डमी वेफर सेमीकंडक्टर निर्माण में एक विशेष उपकरण है, जिसे मुख्य रूप से प्रयोगात्मक और परीक्षण उद्देश्यों के लिए डिज़ाइन किया गया है।**
और पढ़ेंजांच भेजेंSiC सिरेमिक सील रिंग अपने मजबूत प्रदर्शन और स्थायित्व के लिए प्रसिद्ध है। सेमीकोरेक्स उच्च गुणवत्ता वाले SiC सिरेमिक सील रिंग्स प्रदान करता है जो आधुनिक उद्योग की कठोर मांगों को पूरा करते हैं। ये छल्ले यांत्रिक मुहरों की दक्षता और विश्वसनीयता बढ़ाने में अपरिहार्य बन गए हैं।**
और पढ़ेंजांच भेजेंसॉलिड SiC शावर हेड सेमीकंडक्टर निर्माण में एक महत्वपूर्ण घटक है, जिसे विशेष रूप से रासायनिक वाष्प जमाव (CVD) प्रक्रियाओं के लिए डिज़ाइन किया गया है। उन्नत सामग्री प्रौद्योगिकी में अग्रणी सेमीकोरेक्स, सॉलिड SiC शावर हेड्स प्रदान करता है जो सब्सट्रेट सतहों पर पूर्ववर्ती गैसों का बेहतर वितरण सुनिश्चित करता है। उच्च-गुणवत्ता और सुसंगत प्रसंस्करण परिणाम प्राप्त करने के लिए यह परिशुद्धता महत्वपूर्ण है।**
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