रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) एक बहुमुखी पतली-फिल्म जमाव तकनीक है जिसका व्यापक रूप से अर्धचालक उद्योग में विभिन्न सब्सट्रेट्स पर उच्च-गुणवत्ता, अनुरूप पतली फिल्में बनाने के लिए उपयोग किया जाता है। इस प्रक्रिया में गर्म सब्सट्रेट सतह पर गैसीय अग्रदूतों की रासायनिक प्रतिक्रियाएं शामिल होती हैं, जिसके प......
और पढ़ेंयह लेख सेमीकंडक्टर उद्योग के भीतर क्वार्ट्ज नौकाओं के संबंध में सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) नौकाओं के उपयोग और भविष्य के प्रक्षेप पथ पर प्रकाश डालता है, विशेष रूप से सौर सेल विनिर्माण में उनके अनुप्रयोगों पर ध्यान केंद्रित करता है।
और पढ़ेंगैलियम नाइट्राइड (GaN) एपिटैक्सियल वेफर वृद्धि एक जटिल प्रक्रिया है, जिसमें अक्सर दो-चरणीय विधि का उपयोग किया जाता है। इस विधि में कई महत्वपूर्ण चरण शामिल हैं, जिनमें उच्च तापमान बेकिंग, बफर परत वृद्धि, पुन: क्रिस्टलीकरण और एनीलिंग शामिल हैं। इन चरणों में तापमान को सावधानीपूर्वक नियंत्रित करके, दो-च......
और पढ़ेंसेमीकंडक्टर निर्माण में नक़्क़ाशी एक आवश्यक प्रक्रिया है। इस प्रक्रिया को दो प्रकारों में वर्गीकृत किया जा सकता है: सूखी नक़्क़ाशी और गीली नक़्क़ाशी। प्रत्येक तकनीक के अपने फायदे और सीमाएँ हैं, जिससे उनके बीच के अंतर को समझना महत्वपूर्ण हो जाता है। तो, आप सर्वोत्तम नक़्क़ाशी विधि कैसे चुनते हैं? सूख......
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