टैंटलम कार्बाइड कोटिंग हाफमून भाग

सेमीकोरेक्स टैंटलम कार्बाइड कोटिंग हाफमून पार्ट एपिटैक्सियल डिपोजिशन प्रक्रिया में अनुप्रयोग के लिए एक अत्यधिक विशिष्ट घटक है। यह टैंटलम कार्बाइड-लेपित हाफमून पार्ट ऐसे वातावरण में महत्वपूर्ण है जहां उच्च तापमान, असाधारण स्थायित्व और अद्वितीय रासायनिक जड़ता का प्रतिरोध अनिवार्य है।

टैंटलम कार्बाइड कोटिंग हाफमून पार्ट का निर्माण उच्च शुद्धता वाले टैंटलम कार्बाइड से किया गया है, जो उत्कृष्ट तापीय चालकता और उच्च तापमान और थर्मल झटके के लिए अत्यधिक प्रतिरोध प्रदान करता है। TaC कोटिंग एपिटैक्सियल रिएक्टरों में विशिष्ट संक्षारक रसायनों और कठोर वातावरण के खिलाफ सुरक्षा की एक अतिरिक्त परत प्रदान करती है। कोटिंग भाग के स्थायित्व और जीवनकाल को बढ़ाती है, जिससे कई चक्रों में लगातार प्रदर्शन सुनिश्चित होता है।

टैंटलम कार्बाइड कोटिंग हाफमून पार्ट 2200 डिग्री सेल्सियस तक तापमान का सामना करने में सक्षम है, जो इसे उच्च तापमान प्रक्रियाओं के लिए आदर्श बनाता है। सिलिकॉन और अन्य अर्धचालक सामग्रियों के साथ कम प्रतिक्रियाशीलता प्रदर्शित करता है, एपिटैक्सियल परतों की अखंडता को बनाए रखता है।

टैंटलम कार्बाइड कोटिंग हाफमून पार्ट मुख्य रूप से सेमीकंडक्टर उद्योग में उपयोग किया जाता है, विशेष रूप से सिलिकॉन कार्बाइड के एपिटैक्सियल विकास में। अनुसंधान और औद्योगिक पैमाने के एपिटैक्सियल रिएक्टर दोनों में उपयोग के लिए उपयुक्त।