एसओआई वेफर सिलिकॉन ऑन इंसुलेटर

एसओआई वेफर सिलिकॉन ऑन इंसुलेटर, जिसे सिलिकॉन-ऑन-इंसुलेटर वेफर के रूप में भी जाना जाता है, एक प्रकार का सेमीकंडक्टर वेफर है जिसका व्यापक रूप से उन्नत एकीकृत सर्किट (आईसी) के निर्माण में उपयोग किया जाता है। यह पारंपरिक बल्क सिलिकॉन वेफर्स की तुलना में कई फायदे प्रदान करता है, जिससे यह सेमीकंडक्टर उद्योग में एक लोकप्रिय विकल्प बन जाता है।

एसओआई वेफर सिलिकॉन ऑन इंसुलेटर की संरचना में तीन मुख्य परतें होती हैं: सिलिकॉन की एक पतली परत (डिवाइस परत), इन्सुलेट सामग्री (बॉक्स) की एक परत, और एक बल्क सिलिकॉन बेस परत (हैंडल)।

SOI वेफर सिलिकॉन ऑन इंसुलेटर में इंसुलेटिंग परत कई लाभ प्रदान करती है। सबसे पहले, यह ट्रांजिस्टर के बीच परजीवी समाई को कम करता है, जिसके परिणामस्वरूप सर्किट प्रदर्शन में सुधार होता है और उच्च गति संचालन होता है। यह कम क्षमता बिजली की खपत को कम करने में भी मदद करती है, जिससे एसओआई उपकरण बिजली-कुशल अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त हो जाते हैं।

इसके अलावा, इंसुलेटिंग परत सक्रिय उपकरणों के बीच विद्युत अलगाव प्रदान करती है, क्रॉस-टॉक को कम करती है और उच्च-आवृत्ति सर्किट में सिग्नल अखंडता में सुधार करती है। यह रेडियो फ्रीक्वेंसी (आरएफ) और एनालॉग अनुप्रयोगों में विशेष रूप से फायदेमंद है जहां सिग्नल की गुणवत्ता महत्वपूर्ण है।

एसओआई वेफर सिलिकॉन ऑन इंसुलेटर का एक अन्य लाभ उनकी विकिरण कठोरता है। इन्सुलेशन परत विकिरण-प्रेरित प्रभावों के खिलाफ एक प्राकृतिक ढाल के रूप में कार्य करती है, जिससे एसओआई उपकरण विकिरण क्षति के प्रति अधिक प्रतिरोधी हो जाते हैं। यह संपत्ति SOI तकनीक को एयरोस्पेस, परमाणु और अन्य उच्च-विकिरण वातावरणों के लिए उपयुक्त बनाती है।