एमओसीवीडी हीटर

इस हीटर का निर्माण उच्च शुद्धता वाले ग्रेफाइट का उपयोग करके किया गया है, जिसमें अशुद्धता का स्तर सावधानीपूर्वक 5 भाग प्रति मिलियन (पीपीएम) से कम नियंत्रित किया गया है। फिर ग्रेफाइट को रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) के साथ लेपित किया जाता है, जिसका शुद्धता स्तर 99.99995% से अधिक होता है। सामग्रियों का यह संयोजन हीटर को गुणों का एक अनूठा सेट प्रदान करता है जो धातु-कार्बनिक रासायनिक वाष्प जमाव (एमओसीवीडी) प्रक्रियाओं में इष्टतम प्रदर्शन प्राप्त करने के लिए अपरिहार्य है।

सेमीकोरेक्स एमओसीवीडी हीटर की सबसे उल्लेखनीय विशेषताओं में से एक इसकी असाधारण रासायनिक शुद्धता है। उच्च शुद्धता वाला ग्रेफाइट कोर उच्च तापमान प्रक्रियाओं के दौरान प्रदूषकों की शुरूआत को काफी कम कर देता है, जिससे अल्ट्रा-क्लीन पतली फिल्मों का जमाव सुनिश्चित होता है। सीवीडी सीआईसी कोटिंग इस शुद्धता को और बढ़ाती है, जो रासायनिक अंतःक्रियाओं के खिलाफ एक मजबूत बाधा प्रदान करती है जो जमा परतों की अखंडता से समझौता कर सकती है। बेहतर प्रदर्शन और विश्वसनीयता वाले अर्धचालक उपकरणों के उत्पादन के लिए रासायनिक शुद्धता का यह उच्च स्तर महत्वपूर्ण है।

इसके अलावा, हीटर अत्यधिक मजबूत और थर्मल रूप से कुशल है, जो एमओसीवीडी प्रक्रियाओं की विशिष्ट चरम थर्मल स्थितियों का सामना करने में सक्षम है। SiC के अंतर्निहित गुण, जैसे इसका उच्च गलनांक और तापीय चालकता, हीटर की गर्मी को कुशलतापूर्वक प्रबंधित और वितरित करने की क्षमता में योगदान करते हैं। यह थर्मल दक्षता पूरे सब्सट्रेट में एक समान हीटिंग सुनिश्चित करती है, जो सजातीय फिल्म जमाव को प्राप्त करने और थर्मल ग्रेडिएंट को कम करने के लिए आवश्यक है जो दोष पैदा कर सकता है।

विद्युत चालकता एक अन्य क्षेत्र है जहां सेमीकोरेक्स एमओसीवीडी हीटर उत्कृष्ट है। उच्च शुद्धता वाला ग्रेफाइट कोर उत्कृष्ट विद्युत चालकता प्रदान करता है, जिससे हीटर आसानी से उच्च विद्युत भार को संभाल सकता है। यह क्षमता एमओसीवीडी प्रक्रियाओं में विशेष रूप से महत्वपूर्ण है जिसके लिए तापमान और जमाव दर पर सटीक नियंत्रण की आवश्यकता होती है। उच्च भार के तहत स्थिर विद्युत प्रदर्शन बनाए रखने की हीटर की क्षमता सुसंगत और प्रतिलिपि प्रस्तुत करने योग्य प्रक्रिया की स्थिति सुनिश्चित करती है, जो उच्च-उपज वाले अर्धचालक निर्माण के लिए महत्वपूर्ण हैं।

हीटर की सपाट सतह को सब्सट्रेट के प्रति उच्च उत्सर्जन प्रदान करने के लिए सावधानीपूर्वक डिज़ाइन किया गया है, जिससे विकिरण गर्मी हस्तांतरण की दक्षता बढ़ जाती है। यह डिज़ाइन सुविधा सुनिश्चित करती है कि सब्सट्रेट को एक समान ताप प्राप्त हो, जो लगातार मोटाई और गुणों के साथ उच्च गुणवत्ता वाली पतली फिल्में प्राप्त करने के लिए महत्वपूर्ण है। उच्च उत्सर्जन सतह हीटर की समग्र थर्मल दक्षता में भी योगदान देती है, जिससे ऊर्जा की खपत और परिचालन लागत कम हो जाती है।

स्थायित्व के संदर्भ में, सेमीकोरेक्स एमओसीवीडी हीटर असाधारण संक्षारण प्रतिरोध, इनॉक्सिडिज़ेबिलिटी और उच्च यांत्रिक शक्ति प्रदान करता है। सीवीडी सीआईसी कोटिंग एक मजबूत सुरक्षात्मक परत प्रदान करती है जो आमतौर पर एमओसीवीडी प्रक्रियाओं में आने वाली संक्षारक गैसों और रसायनों का प्रतिरोध करती है। यह संक्षारण प्रतिरोध हीटर के परिचालन जीवनकाल को बढ़ाता है, रखरखाव और प्रतिस्थापन लागत को कम करता है। हीटर की इनॉक्सिडिज़ेबिलिटी यह सुनिश्चित करती है कि यह स्थिर रहे और उच्च तापमान पर भी खराब न हो, लंबे परिचालन अवधि में इसके प्रदर्शन और संरचनात्मक अखंडता को संरक्षित रखता है।

अंत में, हीटर की उच्च यांत्रिक शक्ति यह सुनिश्चित करती है कि यह थर्मल साइक्लिंग और सब्सट्रेट हैंडलिंग से जुड़े भौतिक तनावों का सामना कर सकता है। यह मजबूती यांत्रिक विफलता के जोखिम को कम करती है, विश्वसनीय और निरंतर संचालन सुनिश्चित करती है।