उच्च शुद्धता वाला ग्रेफाइट पाउडर

सेमीकोरेक्स उच्च शुद्धताग्रेफाइटसेमीकंडक्टर उद्योग में पाउडर एक महत्वपूर्ण सामग्री है। असाधारण शुद्धता के स्तर और बेहतर भौतिक और रासायनिक गुणों के साथ, यह सामग्री कड़े प्रदर्शन मानकों की आवश्यकता वाले अनुप्रयोगों के लिए अपरिहार्य है।

प्रमुख विशेषताऐं

• असाधारण शुद्धता: उच्च शुद्धता वाला ग्रेफाइट पाउडर आमतौर पर 99.9% से अधिक कार्बन सामग्री प्राप्त करता है, जिससे क्रिस्टल विकास प्रक्रिया के दौरान न्यूनतम संदूषण सुनिश्चित होता है। सेमीकंडक्टर वेफर्स की अखंडता और गुणवत्ता बनाए रखने के लिए शुद्धता का यह स्तर आवश्यक है।
• उत्कृष्ट तापीय चालकता: सामग्री की बेहतर तापीय चालकता समान ताप वितरण को सक्षम बनाती है, जो सेमीकंडक्टर क्रिस्टल के लिए नियंत्रित विकास वातावरण बनाए रखने में महत्वपूर्ण है।
• उच्च तापमान प्रतिरोध: उच्च शुद्धता वाला ग्रेफाइट पाउडर बिना किसी गिरावट के अत्यधिक तापमान का सामना कर सकता है, जो इसे अर्धचालक निर्माण में उपयोग की जाने वाली उच्च तापमान भट्टियों के लिए आदर्श बनाता है।
• रासायनिक स्थिरता: रासायनिक प्रतिक्रियाओं के प्रति इसका प्रतिरोध उच्च तापमान और प्रतिक्रियाशील वातावरण सहित कठोर परिस्थितियों में लंबे समय तक संपर्क के दौरान स्थायित्व और विश्वसनीयता सुनिश्चित करता है।
• अनुकूलन योग्य कण आकार: विभिन्न कण आकारों में उपलब्ध, पाउडर को विभिन्न अर्धचालक क्रिस्टल विकास प्रक्रियाओं की विशिष्ट आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए तैयार किया जा सकता है।

सेमीकंडक्टर क्रिस्टल ग्रोथ में अनुप्रयोग

1. SiC क्रिस्टल ग्रोथ:

उच्च शुद्धता वाले ग्रेफाइट पाउडर का उपयोग सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) क्रिस्टल विकास में बड़े पैमाने पर किया जाता है, जो उन्नत अर्धचालक उपकरणों के उत्पादन के लिए महत्वपूर्ण प्रक्रिया है। पाउडर का उपयोग क्रूसिबल और इन्सुलेशन सामग्री जैसे झरझरा ग्रेफाइट घटकों के उत्पादन में किया जाता है, जो उच्च गुणवत्ता वाले SiC क्रिस्टल के विकास का समर्थन करते हैं। इसकी उच्च शुद्धता अशुद्धियों को कम करती है, जिससे परिणामी क्रिस्टल के विद्युत और थर्मल गुणों में वृद्धि होती है।

2. फोटोवोल्टिक सिलिकॉन क्रिस्टल ग्रोथ:

फोटोवोल्टिक उद्योग में, उच्च शुद्धता वाले ग्रेफाइट पाउडर का उपयोग एकल-क्रिस्टल और पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन विकास के लिए घटकों के उत्पादन में किया जाता है। ये घटक, जैसे कि मोल्ड और हीटर, सौर कोशिकाओं के लिए सिलिकॉन वेफर्स के निर्माण में लगातार गुणवत्ता और उपज सुनिश्चित करते हैं।

3. एपिटैक्सियल परत जमाव:

सामग्री एपिटैक्सी प्रक्रियाओं का भी अभिन्न अंग है, जहां अर्धचालक सामग्री की परतों को विकसित करने के लिए सटीक थर्मल और रासायनिक स्थितियों की आवश्यकता होती है। उच्च शुद्धता वाला ग्रेफाइट पाउडर रिसेप्टर्स जैसे एपिटेक्सी घटकों के निर्माण में योगदान देता है, जो असाधारण थर्मल और रासायनिक प्रदर्शन की मांग करते हैं।

4. ग्रेफाइट-आधारित थर्मल इन्सुलेशन:

क्रिस्टल वृद्धि के लिए उपयोग की जाने वाली उच्च तापमान भट्टियों में, ग्रेफाइट पाउडर का उपयोग इन्सुलेशन सामग्री बनाने के लिए किया जाता है जो स्थिर थर्मल वातावरण बनाए रखता है। यह प्रक्रिया दक्षता को बढ़ाता है और विकसित क्रिस्टल की एकरूपता सुनिश्चित करता है।

सेमीकोरेक्स की उच्च शुद्धताग्रेफाइटपाउडर अपनी अद्वितीय गुणवत्ता और अनुप्रयोग-संचालित डिज़ाइन के कारण अलग दिखता है। हमारी कठोर उत्पादन प्रक्रियाएं सेमीकंडक्टर उद्योग की सटीक आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए स्थिरता, उच्च शुद्धता और अनुरूप विनिर्देश सुनिश्चित करती हैं।

सेमीकोरेक्स उच्च शुद्धता वाला ग्रेफाइट पाउडर सेमीकंडक्टर क्रिस्टल विकास में एक आधारशिला सामग्री है, जो मांग वाले अनुप्रयोगों में बेजोड़ प्रदर्शन प्रदान करता है। इसके असाधारण थर्मल, रासायनिक और संरचनात्मक गुण उन्नत अर्धचालक उपकरणों के सफल उत्पादन को सुनिश्चित करते हैं। नवाचार और गुणवत्ता के प्रति अपनी प्रतिबद्धता के साथ, सेमीकोरेक्स सेमीकंडक्टर प्रक्रियाओं में उत्कृष्टता हासिल करने का लक्ष्य रखने वाले निर्माताओं के लिए एक विश्वसनीय समाधान प्रदान करता है।