सीवीडी कोटिंग वेफर धारक

सेमिकॉरेक्स सीवीडी कोटिंग वेफर होल्डर एक उच्च-प्रदर्शन वाला हिस्सा है, जिसे एपिटैक्सी प्रक्रियाओं का उपयोग करके अर्धचालक सामग्री के सटीक वृद्धि के दौरान वेफर्स को समर्थन और धारण करने के लिए डिज़ाइन किया गया है। यह टैंटलम कार्बाइड (टीएसी) के साथ लेपित है, जो मांग की स्थिति में इसकी बकाया स्थायित्व और विश्वसनीयता में योगदान देता है।

प्रमुख विशेषताऐं:

टैंटलम कार्बाइड कोटिंग: टैंटलम कार्बाइड (टीएसी) के साथ वेफर होल्डर कोटिंग इसकी कठोरता, पहनने के प्रतिरोध और थर्मल स्थिरता के कारण है। यह कोटिंग कठोर रासायनिक वातावरण के साथ -साथ उच्च तापमान का विरोध करने के लिए उत्पाद की क्षमता में महत्वपूर्ण योगदान देता है और अर्धचालक विनिर्माण से वास्तव में आवश्यक रूप से असर डालने में आवेदन पाता है।

सुपरक्रिटिकल कोटिंग तकनीक: कोटिंग को एक सुपरक्रिटिकल फ्लुइड डिपोजिशन विधि का उपयोग करके लागू किया जाता है जो टीएसी की समान और घनी परत की गारंटी देता है। उन्नत कोटिंग तकनीक बेहतर आसंजन और दोष में कमी प्रदान करती है, उच्च गुणवत्ता वाले, लंबे समय तक चलने वाली दीर्घायु के साथ लंबे समय तक चलने वाली कोटिंग प्रदान करती है।

कोटिंग की मोटाई: टीएसी कोटिंग 120 माइक्रोन तक की मोटाई तक पहुंच सकती है, जो स्थायित्व और सटीकता का एक आदर्श संतुलन प्रदान करती है। यह मोटाई यह सुनिश्चित करती है कि वेफर धारक अपनी संरचनात्मक अखंडता से समझौता किए बिना उच्च तापमान, दबाव और प्रतिक्रियाशील वातावरण का सामना कर सकता है।

उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता: टैंटलम कार्बाइड कोटिंग उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता प्रदान करता है, जिससे वेफर धारक को अर्धचालक एपिटैक्सी प्रक्रियाओं के विशिष्ट उच्च तापमान स्थितियों में मज़बूती से प्रदर्शन करने की अनुमति मिलती है। यह सुविधा लगातार परिणामों को बनाए रखने और सेमीकंडक्टर सामग्री की गुणवत्ता सुनिश्चित करने के लिए महत्वपूर्ण है।

संक्षारण और पहनने के प्रतिरोध: टीएसी कोटिंग जंग और पहनने के लिए उत्कृष्ट प्रतिरोध प्रदान करता है, यह सुनिश्चित करना कि वेफर धारक प्रतिक्रियाशील गैसों और रसायनों के संपर्क को सहन कर सकता है जो आमतौर पर अर्धचालक प्रक्रियाओं में पाए जाते हैं। यह स्थायित्व उत्पाद के जीवन का विस्तार करता है और परिचालन दक्षता को बढ़ाते हुए, लगातार प्रतिस्थापन की आवश्यकता को कम करता है।

आवेदन:

सीवीडी कोटिंग वेफर धारक को विशेष रूप से अर्धचालक एपिटैक्सी प्रक्रियाओं के लिए डिज़ाइन किया गया है, जहां सटीक नियंत्रण और सामग्री अखंडता आवश्यक है। इसका उपयोग आणविक बीम एपिटैक्सी (एमबीई), रासायनिक वाष्प बयान (सीवीडी), और धातु-कार्बनिक रासायनिक वाष्प जमाव (MOCVD) जैसी तकनीकों में किया जाता है, जहां वेफर धारक को चरम तापमान और प्रतिक्रियाशील वातावरण का सामना करना होगा।

सेमीकंडक्टर एपिटैक्सी में, एक सब्सट्रेट पर उच्च गुणवत्ता वाली पतली फिल्मों को बढ़ाने के लिए सटीकता महत्वपूर्ण है। सीवीडी कोटिंग वेफर होल्डर यह सुनिश्चित करता है कि वेफर्स सुरक्षित रूप से समर्थित हैं और इष्टतम परिस्थितियों में बनाए रखा जाता है, उच्च गुणवत्ता वाले अर्धचालक सामग्री के लगातार उत्पादन में योगदान देता है।

अर्धविराम सीवीडी कोटिंग वेफर धारक को अर्धचालक एपिटैक्सी की उच्च मांगों को पूरा करने के लिए अत्याधुनिक सामग्री और उन्नत कोटिंग प्रौद्योगिकियों का उपयोग करके इंजीनियर किया जाता है। एक मोटी, समान टीएसी कोटिंग के लिए सुपरक्रिटिकल द्रव जमाव का उपयोग बेजोड़ स्थायित्व, सटीक और दीर्घायु सुनिश्चित करता है। अपने बेहतर थर्मल और रासायनिक प्रतिरोध के साथ, हमारे वेफर धारक को सबसे चुनौतीपूर्ण वातावरण में विश्वसनीय प्रदर्शन देने के लिए डिज़ाइन किया गया है, जो आपके अर्धचालक विनिर्माण प्रक्रियाओं की दक्षता में सुधार करने में मदद करता है।