एएलएन सिरेमिक डिस्क

AlN सिरेमिक डिस्क की तापीय चालकता 170 और 220 W/m.K के बीच होती है। यह तापीय चालकता पारंपरिक एल्यूमिना सिरेमिक की तुलना में काफी अधिक - 5 से 8.5 गुना अधिक है, जो AlN सिरेमिक डिस्क को उन अनुप्रयोगों के लिए आदर्श बनाती है जहां कुशल गर्मी निष्कासन महत्वपूर्ण है। यह उन्हें इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग में विशेष रूप से मूल्यवान बनाता है, जहां इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के प्रदर्शन और दीर्घायु को बनाए रखने के लिए गर्मी का अपव्यय सर्वोपरि है।

AlN सिरेमिक डिस्क के थर्मल विस्तार का गुणांक सिलिकॉन (Si) के समान है, जो सिलिकॉन चिप्स की विश्वसनीयता सुनिश्चित करने में महत्वपूर्ण भूमिका निभाता है। यह समानता तापमान में उतार-चढ़ाव के दौरान थर्मल तनाव को कम करने में मदद करती है, जिससे सी-आधारित इलेक्ट्रॉनिक घटकों के स्थायित्व और प्रदर्शन में वृद्धि होती है। यह संपत्ति उच्च परिशुद्धता अनुप्रयोगों में विशेष रूप से फायदेमंद है जहां थर्मल विस्तार बेमेल विफलता या कम दक्षता का कारण बन सकता है।

AlN सिरेमिक डिस्क को उनके उच्च इन्सुलेशन प्रतिरोध और वोल्टेज प्रतिरोध शक्ति के लिए भी जाना जाता है। इन उच्च इन्सुलेशन गुणों के बावजूद, वे कम ढांकता हुआ स्थिरांक और ढांकता हुआ नुकसान बनाए रखते हैं, जो उन्हें इलेक्ट्रॉनिक्स क्षेत्र में अनुप्रयोगों के लिए आदर्श बनाता है जहां विद्युत इन्सुलेशन और कुशल सिग्नल ट्रांसमिशन की आवश्यकता होती है। ये गुण AlN सिरेमिक डिस्क को उच्च-आवृत्ति संचार उपकरणों में उपयोग करने में सक्षम बनाते हैं, जिससे इष्टतम प्रदर्शन और न्यूनतम ऊर्जा हानि सुनिश्चित होती है।

AlN सिरेमिक डिस्क की यांत्रिक शक्ति एक अन्य महत्वपूर्ण लाभ है। 450 एमपीए तक की यांत्रिक शक्ति के साथ, इन डिस्क में बहुत सघन सिरेमिक बॉडी होती है जो छिद्र से मुक्त होती है, जो उनकी संरचनात्मक अखंडता और यांत्रिक तनाव के प्रतिरोध को बढ़ाती है। यह मजबूती सुनिश्चित करती है कि AlN सिरेमिक डिस्क अपने प्रदर्शन या विश्वसनीयता से समझौता किए बिना मांग वाले अनुप्रयोगों की कठोरता का सामना कर सकती है।

AlN सिरेमिक डिस्क की एक और आकर्षक विशेषता उनकी शुद्धता है, जो 99% तक पहुंच सकती है। यह उच्च शुद्धता स्तर सुनिश्चित करता है कि सामग्री दूषित पदार्थों से मुक्त है और RoHS और REACH जैसे कड़े सुरक्षा और पर्यावरणीय नियमों को पूरा करती है। एएलएन सिरेमिक डिस्क की गैर विषैले प्रकृति उन्हें अनुप्रयोगों की एक विस्तृत श्रृंखला के लिए उपयुक्त बनाती है, जिसमें वे अनुप्रयोग भी शामिल हैं जहां सामग्री सुरक्षा एक गंभीर चिंता का विषय है।

सेमीकंडक्टर निर्माण के संदर्भ में, AlN सिरेमिक डिस्क उत्कृष्ट प्लाज्मा प्रतिरोध प्रदर्शित करती है। अर्धचालक प्रसंस्करण के दौरान, वेफर्स पर उच्च गुणवत्ता वाली पतली फिल्में जमा करने के लिए वाष्पशील अग्रदूत गैसों, प्लाज्मा और उच्च तापमान का उपयोग किया जाता है। AlN सिरेमिक डिस्क का स्थायित्व उन्हें इन कठोर वातावरणों का सामना करने की अनुमति देता है, जो उन्हें जमाव कक्षों और वेफर हैंडलिंग टूल में उपयोग के लिए एकदम सही बनाता है।

AlN सिरेमिक डिस्क विभिन्न उद्योगों में विविध अनुप्रयोग पाती है। इलेक्ट्रॉनिक्स के क्षेत्र में, वे उच्च-शक्ति इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के लिए सब्सट्रेट के रूप में काम करते हैं, जहां उनकी तापीय चालकता और विद्युत इन्सुलेशन गुण महत्वपूर्ण हैं। इनका उपयोग उच्च-शक्ति एलईडी के लिए हीट सिंक के रूप में भी किया जाता है, जो इष्टतम प्रदर्शन और दीर्घायु सुनिश्चित करने के लिए गर्मी अपव्यय को प्रभावी ढंग से प्रबंधित करता है।

इलेक्ट्रॉनिक्स के अलावा, AlN सिरेमिक डिस्क का उपयोग उनके अनुकूल तापीय और विद्युत गुणों के कारण उच्च आवृत्ति संचार उपकरणों में किया जाता है। उनका अनुप्रयोग लेजर सिस्टम और माइक्रोवेव घटकों तक फैला हुआ है, जहां उच्च शक्ति को संभालने और सिग्नल अखंडता बनाए रखने की उनकी क्षमता अपरिहार्य है।

इसके अलावा, AlN सिरेमिक डिस्क को काटने के उपकरण के रूप में उपयोग किया जाता है, जो काटने के संचालन में शामिल उच्च तनाव और तापमान का सामना करने के लिए अपने उत्कृष्ट थर्मल और यांत्रिक गुणों का लाभ उठाते हैं। चरम स्थितियों में तीक्ष्णता और स्थायित्व बनाए रखने की उनकी क्षमता उन्हें सटीक काटने के अनुप्रयोगों के लिए पसंदीदा विकल्प बनाती है।