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TSMC: 2nm प्रक्रिया जोखिम परीक्षण उत्पादन अगले वर्ष

अपनी नई जारी वार्षिक रिपोर्ट में, टीएसएमसी के अध्यक्ष डेयिन लियू और सीईओ चीह-जिया वेई ने 2nm प्रक्रिया से संबंधित प्रगति का खुलासा किया।

एपिटैक्सियल परतों के लिए अनुप्रयोग परिदृश्य

हम जानते हैं कि उपकरण निर्माण के लिए कुछ वेफर सब्सट्रेट्स के शीर्ष पर अतिरिक्त एपिटैक्सियल परतें बनाने की आवश्यकता होती है, आमतौर पर एलईडी प्रकाश उत्सर्जक उपकरण, जिन्हें सिलिकॉन सब्सट्रेट्स के शीर्ष पर GaAs एपिटैक्सियल परतों की आवश्यकता होती है; उच्च वोल्टेज, उच्च धारा और अन्य बिजली अनुप्रयोगों के ल......

सीवीडी फर्नेस पर चर्चा

चीन सबसे बड़ा सेमीकंडक्टर उपकरण बाजार बना रहा

दुनिया भर में सेमीकंडक्टर विनिर्माण उपकरणों की बिक्री 2021 में 5 प्रतिशत बढ़कर 102.6 बिलियन डॉलर से बढ़कर पिछले साल 107.6 बिलियन डॉलर के सर्वकालिक रिकॉर्ड तक पहुंच गई, वैश्विक इलेक्ट्रॉनिक्स डिजाइन और विनिर्माण आपूर्ति श्रृंखला का प्रतिनिधित्व करने वाला उद्योग संघ SEMI।

SiC वेफर एपिटैक्सी के लिए सीवीडी प्रक्रिया

SiC वेफर एपिटैक्सी के लिए CVD प्रक्रिया में गैस-चरण प्रतिक्रिया का उपयोग करके SiC सब्सट्रेट पर SiC फिल्मों का जमाव शामिल है। SiC अग्रदूत गैसें, आमतौर पर मिथाइलट्राइक्लोरोसिलेन (MTS) और एथिलीन (C2H4) को एक प्रतिक्रिया कक्ष में पेश किया जाता है, जहां SiC सब्सट्रेट को हाइड्रोजन (H2) के नियंत्रित वातावर......

जापान ने हाल ही में 23 प्रकार के सेमीकंडक्टर विनिर्माण उपकरणों के निर्यात को प्रतिबंधित कर दिया है

जापान ने हाल ही में 23 प्रकार के सेमीकंडक्टर विनिर्माण उपकरणों के निर्यात को प्रतिबंधित कर दिया है। इस घोषणा से पूरे उद्योग में हलचल मच गई है, क्योंकि इस कदम से सेमीकंडक्टर विनिर्माण के लिए वैश्विक आपूर्ति श्रृंखला पर महत्वपूर्ण प्रभाव पड़ने की उम्मीद है।