2025-07-31
सेमीकंडक्टर उपकरण में कक्ष और कक्ष होते हैं, और अधिकांश सिरेमिक का उपयोग वेफर्स के करीब कक्षों में किया जाता है। सिरेमिक भागों, महत्वपूर्ण घटक व्यापक रूप से कोर उपकरणों के गुहाओं में उपयोग किए जाते हैं, सेमीकंडक्टर उपकरण घटक हैं जो उन्नत सिरेमिक सामग्री जैसे कि एल्यूमिना सिरेमिक, एल्यूमीनियम नाइट्राइड सिरेमिक और सिलिकॉन कार्बाइड सिरेमिक का उपयोग करके सटीक प्रसंस्करण के माध्यम से निर्मित होते हैं। उन्नत सिरेमिक सामग्री में शक्ति, सटीकता, विद्युत गुण और संक्षारण प्रतिरोध में उत्कृष्ट प्रदर्शन होता है, और वैक्यूम और उच्च तापमान जैसे विशेष वातावरण में अर्धचालक विनिर्माण की जटिल प्रदर्शन आवश्यकताओं को पूरा कर सकता है। अर्धचालक उपकरणों के उन्नत सिरेमिक सामग्री घटकों का उपयोग मुख्य रूप से कक्षों में किया जाता है, और उनमें से कुछ वेफर के साथ सीधे संपर्क में हैं। वे एकीकृत सर्किट विनिर्माण में प्रमुख सटीक घटक हैं और उन्हें पांच श्रेणियों में विभाजित किया जा सकता है: कुंडलाकार सिलेंडर, एयरफ्लो गाइड, लोड-असर और निश्चित प्रकार, ग्रिपर गैसकेट और मॉड्यूल। यह लेख मुख्य रूप से पहली श्रेणी के बारे में बात करता है: कुंडलाकार सिलेंडर।
1। Moiré Rings: मुख्य रूप से पतली फिल्म जमाव उपकरणों में उपयोग किया जाता है। प्रक्रिया कक्ष के भीतर स्थित, वे वेफर के साथ सीधे संपर्क में आते हैं, गैस मार्गदर्शन, इन्सुलेशन और संक्षारण प्रतिरोध को बढ़ाते हैं।
2। गार्ड रिंग्स: मुख्य रूप से पतली फिल्म जमाव उपकरण और एचर में उपयोग किया जाता है। प्रक्रिया कक्ष के भीतर स्थित, वे इलेक्ट्रोस्टैटिक चक और सिरेमिक हीटर जैसे प्रमुख मॉड्यूल घटकों की रक्षा करते हैं।
3। एज रिंग्स: मुख्य रूप से पतली फिल्म जमाव उपकरण और एचर में उपयोग किया जाता है। प्रक्रिया कक्ष के भीतर स्थित, वे प्लाज्मा को भागने से रोकते हैं और रोकते हैं।
4। फोकसिंग रिंग्स: मुख्य रूप से पतली फिल्म जमाव उपकरण, एचर और आयन आरोपण उपकरण में उपयोग किया जाता है। प्रक्रिया कक्ष के भीतर स्थित, वे वेफर से 20 मिमी से कम हैं, जो चैम्बर के भीतर प्लाज्मा को केंद्रित करते हैं।
5। सुरक्षात्मक कवर: मुख्य रूप से पतली फिल्म जमाव उपकरण और एचर में उपयोग किया जाता है। प्रक्रिया कक्ष के भीतर स्थित, वे प्रक्रिया अवशेषों को सील और अवशोषित करते हैं।
6। ग्राउंडिंग रिंग्स: मुख्य रूप से पतली फिल्म जमाव उपकरण और एचर में उपयोग किया जाता है। चैंबर के बाहर स्थित, वे घटकों को सुरक्षित और समर्थन करते हैं।
7। लाइनर: मुख्य रूप से एचर्स में उपयोग किया जाता है, प्रक्रिया कक्ष के भीतर स्थित, यह गैस मार्गदर्शन को बढ़ाता है और अधिक समान फिल्म गठन सुनिश्चित करता है।
8। इन्सुलेशन सिलेंडर: मुख्य रूप से पतली फिल्म बयान उपकरण, एचर और आयन प्रत्यारोपण में उपयोग किया जाता है, यह प्रक्रिया कक्ष के भीतर स्थित है और उपकरण के तापमान नियंत्रण प्रदर्शन में सुधार करता है।
9। थर्मोकपल प्रोटेक्शन ट्यूब: मुख्य रूप से विभिन्न अर्धचालक फ्रंट-एंड उपकरणों में उपयोग किया जाता है, यह कक्ष के बाहर स्थित है और अपेक्षाकृत स्थिर तापमान और रासायनिक वातावरण में थर्मोकॉल्स की रक्षा करता है।
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